钽在碳酸乙烯酯-氯化铝溶剂化离子液体中的电化学行为

以钨丝为工作电极,通过循环伏安法研究碳酸乙烯酯?氯化铝(EC?AlCl3)溶剂化离子液体中Ta(V)的电化学还原机理.在EC?AlCl3?TaCl5离子液体的循环伏安曲线中出现4个还原峰,其中?0.55、?0.72和?1.12 V(vs Al)处还原峰对应的反应为Ta(V)络合离子三步还原为金属钽,包括Ta(IV)和Ta(III)络合离子的形成.络合离子Ta(III)被还原为金属钽的过程受扩散控制且不可逆,其在323 K下的扩散系数为3.7×10?7 cm2/s,扩散活化能为77 kJ/mol.另外,对323 K下的阴极产物进行扫描电子显微镜、能量分散光谱和X射线光电子能谱分析.结果 表明,在...

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Published in中国有色金属学报（英文版） Vol. 30; no. 8; pp. 2283 - 2292
Main Authors 刘爱民, 郭梦霞, 吕梓阳, 张保国, 刘风国, 陶文举, 杨酉坚, 胡宪伟, 王兆文, 刘玉宝, 石忠宁
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 东北大学 多金属共生矿生态化冶金教育部重点实验室,沈阳 110819%包头稀土研究院 白云鄂博稀土资源研究与综合利用国家重点实验室,包头 014030%东北大学 轧制技术及连轧自动化国家重点实验室,沈阳 110819 2020
Subjects
ionic liquid
aluminum chloride
cyclic voltammetry
电化学行为
氯化铝
循环伏安法
electrochemical behavior
离子液体
tantalum
钽
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ISSN1003-6326
DOI10.1016/S1003-6326(20)65379-1

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Summary:以钨丝为工作电极,通过循环伏安法研究碳酸乙烯酯?氯化铝(EC?AlCl3)溶剂化离子液体中Ta(V)的电化学还原机理.在EC?AlCl3?TaCl5离子液体的循环伏安曲线中出现4个还原峰,其中?0.55、?0.72和?1.12 V(vs Al)处还原峰对应的反应为Ta(V)络合离子三步还原为金属钽,包括Ta(IV)和Ta(III)络合离子的形成.络合离子Ta(III)被还原为金属钽的过程受扩散控制且不可逆,其在323 K下的扩散系数为3.7×10?7 cm2/s,扩散活化能为77 kJ/mol.另外,对323 K下的阴极产物进行扫描电子显微镜、能量分散光谱和X射线光电子能谱分析.结果 表明,在?0.8 V下恒电位电沉积2 h的产物为金属钽和钽的氧化物.
ISSN:1003-6326
DOI:10.1016/S1003-6326(20)65379-1