采用交流阻抗谱研究Gd2O3-Yb2O3共掺杂二氧化锆基热障涂层的高温氧化行为

TG174.4; 采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)制各3Gd2O3-3Yb2O3-4Y2O3(摩尔分数,%)共掺杂的二氧化锆(GY-YSZ)基热障涂层(TBCs).采用交流阻抗谱(IS)并结合扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射分析仪(XRD),研究GY-YSZ涂层在1 050℃的高温氧化行为.交流阻抗谱中不同的电学信号分别反映GY-YSZ晶粒和晶界的信息,采用电路拟合的方法对其进行分析.在氧化过程中GY-YSZ的导电机制发生变化,原因是稳定剂在氧化过程中发生扩散导致了O2-空位和晶格畸变的产生.研究发现,应该选择合适的测试温度评价GY-YSZ晶粒或晶界的氧化行为,其各自的氧化...

Full description

Saved in:
Bibliographic Details
Published in中国有色金属学报(英文版) Vol. 21; no. 5; pp. 1061 - 1067
Main Authors 张丹华, 郭洪波, 宫声凯
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京,100191 2011
Subjects
Online AccessGet full text
ISSN1003-6326
DOI10.1016/S1003-6326(11)60822-4

Cover

More Information
Summary:TG174.4; 采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)制各3Gd2O3-3Yb2O3-4Y2O3(摩尔分数,%)共掺杂的二氧化锆(GY-YSZ)基热障涂层(TBCs).采用交流阻抗谱(IS)并结合扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射分析仪(XRD),研究GY-YSZ涂层在1 050℃的高温氧化行为.交流阻抗谱中不同的电学信号分别反映GY-YSZ晶粒和晶界的信息,采用电路拟合的方法对其进行分析.在氧化过程中GY-YSZ的导电机制发生变化,原因是稳定剂在氧化过程中发生扩散导致了O2-空位和晶格畸变的产生.研究发现,应该选择合适的测试温度评价GY-YSZ晶粒或晶界的氧化行为,其各自的氧化信息与交流阻抗谱中阻抗值的变化相对应.测试氧化过程中晶粒和晶界阻抗值变化的温度分别为200℃和300℃.
ISSN:1003-6326
DOI:10.1016/S1003-6326(11)60822-4