采用交流阻抗谱研究Gd2O3-Yb2O3共掺杂二氧化锆基热障涂层的高温氧化行为
TG174.4; 采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)制各3Gd2O3-3Yb2O3-4Y2O3(摩尔分数,%)共掺杂的二氧化锆(GY-YSZ)基热障涂层(TBCs).采用交流阻抗谱(IS)并结合扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射分析仪(XRD),研究GY-YSZ涂层在1 050℃的高温氧化行为.交流阻抗谱中不同的电学信号分别反映GY-YSZ晶粒和晶界的信息,采用电路拟合的方法对其进行分析.在氧化过程中GY-YSZ的导电机制发生变化,原因是稳定剂在氧化过程中发生扩散导致了O2-空位和晶格畸变的产生.研究发现,应该选择合适的测试温度评价GY-YSZ晶粒或晶界的氧化行为,其各自的氧化...
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Published in | 中国有色金属学报(英文版) Vol. 21; no. 5; pp. 1061 - 1067 |
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Main Authors | , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
北京航空航天大学材料科学与工程学院,北京,100191
2011
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Subjects | |
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ISSN | 1003-6326 |
DOI | 10.1016/S1003-6326(11)60822-4 |
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Summary: | TG174.4; 采用电子束物理气相沉积(EB-PVD)制各3Gd2O3-3Yb2O3-4Y2O3(摩尔分数,%)共掺杂的二氧化锆(GY-YSZ)基热障涂层(TBCs).采用交流阻抗谱(IS)并结合扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱和X射线衍射分析仪(XRD),研究GY-YSZ涂层在1 050℃的高温氧化行为.交流阻抗谱中不同的电学信号分别反映GY-YSZ晶粒和晶界的信息,采用电路拟合的方法对其进行分析.在氧化过程中GY-YSZ的导电机制发生变化,原因是稳定剂在氧化过程中发生扩散导致了O2-空位和晶格畸变的产生.研究发现,应该选择合适的测试温度评价GY-YSZ晶粒或晶界的氧化行为,其各自的氧化信息与交流阻抗谱中阻抗值的变化相对应.测试氧化过程中晶粒和晶界阻抗值变化的温度分别为200℃和300℃. |
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ISSN: | 1003-6326 |
DOI: | 10.1016/S1003-6326(11)60822-4 |