不同温度下Se-H2O系电位-pH图的研究

TF843; 针对Se-H2O体系中重要的单核配合物进行计算分析,通过查询热力学手册,获得了各反应物质298 K标准态下的S0、ΔfG0、ΔfH0和CP的数据.计算得到298～573 K下Se(-Ⅱ)-H2O、Se(+Ⅳ)-H2O和Se(+Ⅵ)-H2O体系中各溶解组分在不同pH下的优势区域图.在此基础上,结合不同温度下各含Se物质参与氧化、还原反应的平衡热力学数据,分别构建298、373、473、573 K温度下的Se-H2O系电位-pH图.结果表明:H2Se和H2SeO3均可稳定存在于强酸性溶液中,而H2SeO4仅能存在高温强酸性和溶液中.在298～573 K,单质Se能稳定存在于水溶液中....

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Published in有色金属工程 Vol. 14; no. 2; pp. 49 - 56
Main Authors 姚浩, 杨四齐, 白希为, 张利华
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 昆明理工大学非常规冶金教育部重点实验室,昆明 650093 2024
昆明理工大学冶金与能源工程学院,昆明 650093
昆明理工大学冶金与能源工程学院,昆明 650093%昆明理工大学非常规冶金教育部重点实验室,昆明 650093
昆明理工大学省部共建复杂有色金属资源清洁利用国家重点实验室,昆明 650093
Subjects
电位-pH图
氧化-还原反应
thermodynamics
potential-pH diagram
优势区域
热力学
dominant region
Se-H2O系
oxidation-reduction reaction
Se-H2O system
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ISSN2095-1744
DOI10.3969/j.issn.2095-1744.2024.02.007

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Summary:TF843; 针对Se-H2O体系中重要的单核配合物进行计算分析,通过查询热力学手册,获得了各反应物质298 K标准态下的S0、ΔfG0、ΔfH0和CP的数据.计算得到298～573 K下Se(-Ⅱ)-H2O、Se(+Ⅳ)-H2O和Se(+Ⅵ)-H2O体系中各溶解组分在不同pH下的优势区域图.在此基础上,结合不同温度下各含Se物质参与氧化、还原反应的平衡热力学数据,分别构建298、373、473、573 K温度下的Se-H2O系电位-pH图.结果表明:H2Se和H2SeO3均可稳定存在于强酸性溶液中,而H2SeO4仅能存在高温强酸性和溶液中.在298～573 K,单质Se能稳定存在于水溶液中.在298～473 K之间,H2SeO3、HSeO3-、SeO32-全部可以直接还原成Se.因此,控制一定的pH值和电位,可以使Se以单质形式沉淀从溶液中净化除去.随着温度的升高,H2O的优势区域减少,以固相存在的单质Se的优势区域也在逐渐减少,液相区以Se(+Ⅳ)存在的H2SeO3、HSeO3-及SeO32-的稳定区域不断扩大.且随着温度的升高,将硒单质氧化为Se(Ⅳ)且进一步氧化为Se(Ⅵ)的氧化电位略有降低,氧化反应更易进行.
ISSN:2095-1744
DOI:10.3969/j.issn.2095-1744.2024.02.007