大尺寸氟化铽锂晶体生长与性能
O734%O782+0.2%TB34; 氟化铽锂(LTF)晶体具有大的维尔德常数、低的吸收系数,是一种性能优良的磁光晶体材料,适合用作高功率、大能量激光系统用磁光器件的磁光材料.本文以高纯TbF3 和LiF为原料,采用电阻加热提拉法,在Ar气和CF4 混合气体保护下,成功生长出了直径达2 英寸的大尺寸LTF晶体.该晶坯外观完整,具有良好的光学均匀性和较低的残留应力,He-Ne激光照射下无肉眼可见散射颗粒.该晶体还加工出了直径为 10 mm的LTF晶体元件,测试其单程损耗系数、消光比、透过波前畸变和弱吸收系数等参数,结果表明生长的LTF晶体具有良好的光学质量,其维尔德常数约为市售商用TGG晶体的...
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Published in | 人工晶体学报 Vol. 52; no. 7; pp. 1352 - 1356 |
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Main Authors | , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
北京雷生强式科技有限责任公司,北京 100015
2023
固体激光技术重点实验室,北京 100015%北京雷生强式科技有限责任公司,北京 100015 |
Subjects | |
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ISSN | 1000-985X |
DOI | 10.3969/j.issn.1000-985X.2023.07.019 |
Cover
Summary: | O734%O782+0.2%TB34; 氟化铽锂(LTF)晶体具有大的维尔德常数、低的吸收系数,是一种性能优良的磁光晶体材料,适合用作高功率、大能量激光系统用磁光器件的磁光材料.本文以高纯TbF3 和LiF为原料,采用电阻加热提拉法,在Ar气和CF4 混合气体保护下,成功生长出了直径达2 英寸的大尺寸LTF晶体.该晶坯外观完整,具有良好的光学均匀性和较低的残留应力,He-Ne激光照射下无肉眼可见散射颗粒.该晶体还加工出了直径为 10 mm的LTF晶体元件,测试其单程损耗系数、消光比、透过波前畸变和弱吸收系数等参数,结果表明生长的LTF晶体具有良好的光学质量,其维尔德常数约为市售商用TGG晶体的98%. |
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ISSN: | 1000-985X |
DOI: | 10.3969/j.issn.1000-985X.2023.07.019 |