SiH3与NO2反应机理的理论研究

O643; 采用密度泛函B3LYP/6-311G**和高级电子相关耦合簇CCSD(T)/6-311G**方法计算研究了SiH3与NO2的反应机理,全参数优化了反应势能面上各驻点的几何构型,用内禀反应坐标(IRC)计算和频率分析方法,对过渡态进行了验证.研究结果表明,SiH3与NO2是一多通道多步骤的反应,经过缔合,氢转移和离解等复杂过程,最终得到5种产物....

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Published in化学物理学报 Vol. 18; no. 4; pp. 522 - 526
Main Authors 戴国梁, 王永成, 耿志远, 吕玲玲, 王冬梅
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 复旦大学化学系,上海,200433%西北师范大学化学化工学院,兰州,730070 2005
西北师范大学化学化工学院,兰州,730070
Subjects
NO2
反应机理
SiH3
密度泛函
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Summary:O643; 采用密度泛函B3LYP/6-311G**和高级电子相关耦合簇CCSD(T)/6-311G**方法计算研究了SiH3与NO2的反应机理,全参数优化了反应势能面上各驻点的几何构型,用内禀反应坐标(IRC)计算和频率分析方法,对过渡态进行了验证.研究结果表明,SiH3与NO2是一多通道多步骤的反应,经过缔合,氢转移和离解等复杂过程,最终得到5种产物.
ISSN:1003-7713
DOI:10.3969/j.issn.1674-0068.2005.04.011