厚度与带隙可调、原子层沉积的超薄五氧化二钒纳米晶薄膜
O484.1; 利用原子层沉积方法制备V2O5纳米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精确控制, 并对纳米晶V2O5薄膜的结构形貌、光学带隙和拉曼振动有显著影响.原子层沉积过程中V2O5薄膜生长的两个阶段导致薄膜具有两个光学带隙, 这将有助于理解超薄薄膜生长与功能应用....
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Published in | 红外与毫米波学报 Vol. 38; no. 1; pp. 3 - 7 |
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Main Authors | , , , , , |
Format | Journal Article |
Language | Chinese |
Published |
中国科学院大学,北京 100049%中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海,200083
2019
中国科学院上海技术物理研究所 红外物理国家重点实验室,上海 200083 |
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Summary: | O484.1; 利用原子层沉积方法制备V2O5纳米片晶薄膜.薄膜厚度可以被精确控制, 并对纳米晶V2O5薄膜的结构形貌、光学带隙和拉曼振动有显著影响.原子层沉积过程中V2O5薄膜生长的两个阶段导致薄膜具有两个光学带隙, 这将有助于理解超薄薄膜生长与功能应用. |
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ISSN: | 1001-9014 |
DOI: | 10.11972/j.issn.1001-9014.2019.01.001 |