WO3/BiVO4复合薄膜的制备及其光电化学性能

O643; 导电玻璃作为基底制备WO3纳米片薄膜,通过改变旋涂BiVO4次数,以WO3纳米片薄膜为基底成功制得不同厚度的WO3/BiVO4复合薄膜样品.利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)等分析方法对样品进行表征,并对WO3/BiVO4复合薄膜样品进行吸收光谱、光电流、光电催化和交流阻抗测试.结果表明:WO3/BiVO4复合薄膜样品的光电流密度和光电催化降解效率相较于单一WO3纳米薄膜都得到了提高,具有更好的光电化学性能.且旋涂两次BiVO4的WO3/BiVO4复合薄膜样品有最高的光电流密度值(1.79 mA/cm2)和光电催化降解效率(约为60.5％),比单一WO3材料的光电...

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Published in材料工程 Vol. 51; no. 2; pp. 124 - 130
Main Authors 刘昱麟, 杨继凯, 肖楠, 王国政
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 长春理工大学 电子科学与技术系,长春 130012 2023
Subjects
光电催化
BiVO4
WO3
光电流
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ISSN1001-4381
DOI10.11868/j.issn.1001-4381.2021.000477

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Summary:O643; 导电玻璃作为基底制备WO3纳米片薄膜,通过改变旋涂BiVO4次数,以WO3纳米片薄膜为基底成功制得不同厚度的WO3/BiVO4复合薄膜样品.利用X射线衍射仪(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)等分析方法对样品进行表征,并对WO3/BiVO4复合薄膜样品进行吸收光谱、光电流、光电催化和交流阻抗测试.结果表明:WO3/BiVO4复合薄膜样品的光电流密度和光电催化降解效率相较于单一WO3纳米薄膜都得到了提高,具有更好的光电化学性能.且旋涂两次BiVO4的WO3/BiVO4复合薄膜样品有最高的光电流密度值(1.79 mA/cm2)和光电催化降解效率(约为60.5％),比单一WO3材料的光电流密度(1.30 mA/cm2)提高了27.4％,光电催化降解效率也比单一WO3材料的光电催化降解效率(约为47.9％)提升了26.3％,具有最优异的光电化学性能.
ISSN:1001-4381
DOI:10.11868/j.issn.1001-4381.2021.000477