温度对CVD法在纤维表面制备BN涂层的影响

TQ174; 采用BCl3-NH3-H2体系,在不同温度下通过化学气相沉积法在SiC纤维表面沉积BN涂层.研究温度对BN涂层的沉积速率、形貌、组成以及结构的影响.结果表明:在低温阶段(700~900℃),生长速率随着温度的增加而增大,该结果与阿仑尼乌斯定律相一致,计算得出该反应表观活化能为57. 2kJ/mol.涂层表面光滑致密,沉积均匀,沉积速率受表面反应控制.在900℃时,反应速率达到最大值 (174nm/h),此时,反应速率由表面反应控制转变为物质运输控制.在高于900℃时,由于气相成核的缘故,沉积速率随着温度的增加而减小,涂层变得疏松粗糙.BN涂层为化学计量比1: 1的乱层结构,有序度...

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Published in材料工程 Vol. 46; no. 4; pp. 31 - 37
Main Authors 马良来, 高乐, 胡建宝, 乔振杰, 董绍明
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 中国科学院上海硅酸盐研究所 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室, 上海 200050%中国科学院上海硅酸盐研究所 结构陶瓷与复合材料工程研究中心, 上海 200050 2018
中国科学院大学, 北京 100049
中国科学院上海硅酸盐研究所 高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室, 上海 200050
中国科学院上海硅酸盐研究所 结构陶瓷与复合材料工程研究中心, 上海 200050
Subjects
CVD
BN涂层
microstructure
微观结构
BN interface
deposition rate
沉积速率
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Summary:TQ174; 采用BCl3-NH3-H2体系,在不同温度下通过化学气相沉积法在SiC纤维表面沉积BN涂层.研究温度对BN涂层的沉积速率、形貌、组成以及结构的影响.结果表明:在低温阶段(700~900℃),生长速率随着温度的增加而增大,该结果与阿仑尼乌斯定律相一致,计算得出该反应表观活化能为57. 2kJ/mol.涂层表面光滑致密,沉积均匀,沉积速率受表面反应控制.在900℃时,反应速率达到最大值 (174nm/h),此时,反应速率由表面反应控制转变为物质运输控制.在高于900℃时,由于气相成核的缘故,沉积速率随着温度的增加而减小,涂层变得疏松粗糙.BN涂层为化学计量比1: 1的乱层结构,有序度随着制备温度的升高而增大.
ISSN:1001-4381
1001-4381
DOI:10.11868/j.issn.1001-4381.2016.001069