钛合金微弧氧化涂层等离子体电解去除工艺与作用机制

TG174.451; 微弧氧化涂层在制备及服役过程中出现生长不均匀或表面磨损剥落现象,需将其去除以达到二次制备再利用的目的.针对高结合强度微弧氧化涂层难去除的瓶颈问题,提出了一种等离子体电解涂层去除(Plasma Electrolytic Removal,PER)新技术.对比分析不同电压下涂层去除速率、厚度变化及不同时间下涂层去除后微观形貌发现,当施加电压260 V时,涂层去除效率最低,经过11 min后涂层全部去除;当电压升至320 V时,涂层全部去除仅需6 min,这归因于大的施加电压,更容易产生多且稳定的等离子体放电通道,实现微弧氧化涂层快速去除;基于此进一步提出了等离子体电解涂层去除的...

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Published in材料保护 Vol. 56; no. 7; pp. 25 - 30
Main Authors 邹永纯, 王树棋, 王亚明, 陈国梁, 张凯伟, 欧阳家虎, 贾德昌, 周玉
Format Journal Article
LanguageChinese
Published 哈尔滨工业大学特种陶瓷研究所, 黑龙江 哈尔滨 150001 2023
哈尔滨工业大学分析测试与计算中心, 黑龙江 哈尔滨 150008%哈尔滨工业大学特种陶瓷研究所, 黑龙江 哈尔滨 150001
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Summary:TG174.451; 微弧氧化涂层在制备及服役过程中出现生长不均匀或表面磨损剥落现象,需将其去除以达到二次制备再利用的目的.针对高结合强度微弧氧化涂层难去除的瓶颈问题,提出了一种等离子体电解涂层去除(Plasma Electrolytic Removal,PER)新技术.对比分析不同电压下涂层去除速率、厚度变化及不同时间下涂层去除后微观形貌发现,当施加电压260 V时,涂层去除效率最低,经过11 min后涂层全部去除;当电压升至320 V时,涂层全部去除仅需6 min,这归因于大的施加电压,更容易产生多且稳定的等离子体放电通道,实现微弧氧化涂层快速去除;基于此进一步提出了等离子体电解涂层去除的剥离、减薄与溶解协同作用机制.该工艺去除效率高、绿色环保,在航空航天、医疗器械等领域具有广阔的应用前景.
ISSN:1001-1560
DOI:10.16577/j.issn.1001-1560.2023.0157