High precision optical filter based on magnetron sputtering

• Published in: Vakuum in Forschung und Praxis : Zeitschrift für Vakuumtechnologie, Oberflèachen und Dünne Schichten Vol. 29; no. 4; p. 26
• Main Authors: Biethan, Jens-Peter, Arhilger, Detlef, Pistner, Jurgen, Reus, Holger, Stapp, Martin, Hagedorn, Harro
• Format: Journal Article
• Language: English
• Published: Weinheim Wiley Subscription Services, Inc 01.08.2017
• Subjects: Bandpass filters; Electronic components; Electronic devices; Magnetron sputtering; Optical components; Optical filters; Optoelectronics; Silicon; Thickness
• ISSN: 0947-076X; 1522-2454
• DOI: 10.1002/vipr.201700654

Zusammenfassung Optische Filter höchster Präzision mittels Magnetronsputtern - Direktbeschichtung von Glas und Si-Wafern Anwendungen im Bereich aktueller und auch zukunftiger optischer Filter und Komponenten stellen große Herausforderungen an die heutigen Beschichtungstechnologien dar. Neben den Erfordernissen einer erhöhten Prozesskontrolle und reproduzierbarer hoch präziser Schichtdickenabscheidung sind zunehmend auch praktische Aspekte etwa aus dem Bereich der Prozessautomatisierung von Bedeutung. Insbesondere Applikationen aus dem Bereich der Halbleiterfertigung verlangen ein zuverlässiges und genaues Substrat Handling bei einer gleichzeitigen Kompatibilität mit den in der Mikroelektronik etablierten Standards. Das Helios 800 Sputtersystem erlaubt die hochpräzise Herstellung dieser optischen Komponenten bei einem gleichzeitig hohem Durchsatz. Typische Anwendungen sind Strahlteiler, Bandpass oder auch dielektrische Filter. Zunehmende Bedeutung erlangen Filter im Bereich der Optoelektronik. Insbesondere Anwendungsfelder, die eine Kombination der elektronischen Komponenten mit optischen Filtern zum Ziel haben, rucken vermehrt in den Fokus.