MASK, IMAGE CAPTURING DEVICE, IMAGE CAPTURING SYSTEM, AND DATA GENERATION METHOD

• Main Author: UEMURA, Ryosuke
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 24.10.2024
• Subjects: ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE; ELECTRICITY; PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION

A mask includes a two-dimensional pattern including an optical amplitude modulation region or a phase modulation region having a symmetrical component that is symmetrical in a rotation direction about a preset rotation reference point, wherein the mask guides, based on the two-dimensional pattern, incident light to an image sensor. Additionally, the rotation reference point is set inside a pattern forming region where the two-dimensional pattern is provided. L'invention concerne un masque, comprenant un motif bidimensionnel comprenant une région de modulation optique d'amplitude ou une région de modulation optique de phase ayant un composant symétrique qui est symétrique dans une direction de rotation autour d'un point de référence de rotation prédéfini, le masque guidant, sur la base du motif bidimensionnel, une lumière incidente vers un capteur d'image. De plus, le point de référence de rotation est défini à l'intérieur d'une région de formation de motif où le motif bidimensionnel est fourni.