SURFACE-TREATED ALUMINUM MATERIAL, PRODUCTION METHOD FOR SAME, AND MEMBER FOR SEMICONDUCTOR PROCESSING DEVICE

• Main Authors: KIKUCHI Tatsuya, NAKAJIMA Daiki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 17.10.2024
• Subjects: APPARATUS THEREFOR; CHEMISTRY; ELECTROFORMING; ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; METALLURGY; PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTIONOF COATINGS

A surface-treated aluminum material (1) comprises: a base material (2) comprising aluminum or an aluminum alloy; and a protective film (3) that includes a hydrous oxide and an oxide of aluminum, and that is formed on at least part of a surface of the base material (2). The thickness of the protective film (3) is not less than 2 μm. When the mass ratio of elements in the protective film (3) is analyzed in the depth direction via glow discharge optical emission spectrometry, the ratio CH/CAl of the integral value CH of the mass ratio of hydrogen atoms with respect to the integral value CAl of the mass ratio of aluminum atoms in the range from the surface of the protective film (3) to a position at a depth of 1 μm is 0.2-0.7. Un matériau d'aluminium traité en surface (1) comprend : un matériau de base (2) comprenant de l'aluminium ou un alliage d'aluminium ; et un film protecteur (3) qui comprend un oxyde hydraté et un oxyde d'aluminium, et qui est formé sur au moins une partie d'une surface du matériau de base (2). L'épaisseur du film protecteur (3) est supérieure ou égale à 2 µm. Lorsque le rapport massique des éléments dans le film protecteur (3) est analysé dans le sens de la profondeur par spectrométrie d'émission optique à décharge luminescente, le rapport CH/CAl de la valeur intégrale CH du rapport massique des atomes d'hydrogène par rapport à la valeur intégrale CAl du rapport massique des atomes d'aluminium dans la plage allant de la surface du film protecteur (3) à une position à une profondeur de 1 µm est de 0,2 à 0,7. 表面処理アルミニウム材（１）は、アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる母材（２）と、アルミニウムの酸化物及び水和酸化物を含み、母材（２）の表面の少なくとも一部に形成された保護皮膜（３）と、を有している。保護皮膜（３）の厚みは２μｍ以上である。保護皮膜（３）中の元素の質量比率をグロー放電発光分析法により深さ方向に分析した場合に、保護皮膜（３）の表面から深さ１μｍの位置までの範囲におけるアルミニウム原子の質量比率の積分値ＣAlに対する水素原子の質量比率の積分値ＣHの比ＣH／ＣAlが０．２以上０．７以下である。