POSITIONING APPARATUS

• Main Authors: NARABA, Satoru, TERADA, Katsumi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 03.10.2024
• Subjects: CONTROLLING; PHYSICS; REGULATING; SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES

Provided is a positioning apparatus capable of suppressing the effects of calibration errors on positioning accuracy. Specifically, the positioning apparatus includes: an X-axis movement device and a Y-axis movement device; an imaging device for measuring a movement position; and a control device for outputting a position control signal S to each movement device and acquiring a measured position Pm of an object. The control device performs: first calibration control S1 for calculating a reference calibration value C of a position control signal S on the basis of a target position Pt and the measured position Pm; and second calibration control S2 for selecting a calibration measurement position having the smaller difference from the target position Pt, among an addition-side calibration measurement position Pma and a subtraction-side calibration measurement position Pms that have been moved on the basis of a calibration position control signal Sc calibrated using a temporary calibration value obtained by adding or subtracting a prescribed value to or from the reference calibration value C, and for setting the temporary calibration value used to calculate the calibration position control signal Sc, obtained by moving the object to the selected calibration measurement position, as a new reference calibration value C. L'invention concerne un appareil de positionnement capable de supprimer les effets d'erreurs d'étalonnage sur une précision de positionnement. Plus particulièrement, l'appareil de positionnement comporte : un dispositif de déplacement d'axe X et un dispositif de déplacement d'axe Y ; un dispositif d'imagerie pour mesurer une position de déplacement ; et un dispositif de commande pour délivrer un signal de commande de position S à chaque dispositif de déplacement et acquérir une position mesurée Pm d'un objet. Le dispositif de commande effectue : une première commande d'étalonnage S1 pour calculer une valeur d'étalonnage de référence C d'un signal de commande de position S sur la base d'une position cible Pt et de la position mesurée Pm ; et une seconde commande d'étalonnage S2 pour sélectionner une position de mesure d'étalonnage ayant la différence plus petite par rapport à la position cible Pt, parmi une position de mesure d'étalonnage côté addition Pma et une position de mesure d'étalonnage côté soustraction Pms qui ont été déplacées sur la base d'un signal de commande de position d'étalonnage Sc étalonné à l'aide d'une valeur d'étalonnage temporaire obtenue par addition ou soustraction d'une valeur prescrite à ou de la valeur d'étalonnage de référence C et pour définir la valeur d'étalonnage temporaire utilisée pour calculer le signal de commande de position d'étalonnage Sc, obtenu par déplacement de l'objet jusqu'à la position de mesure d'étalonnage sélectionnée, en tant que nouvelle valeur d'étalonnage de référence C. 位置決め精度に対する校正の誤差の影響を抑制することができる位置決め装置を提供する。具体的には、位置決め装置はＸ軸移動装置及びＹ軸移動装置と、移動位置を計測する撮像装置と、各移動装置に対して位置制御信号Ｓを出力し、対象物の計測位置Ｐｍを取得する制御装置と、を有する。制御装置は、目標位置Ｐｔと計測位置Ｐｍとに基づいて位置制御信号Ｓの基準校正値Ｃを算出する第１校正制御Ｓ１と、基準校正値Ｃに所定値を加減した仮校正値によって校正された校正位置制御信号Ｓｃに基づいて移動された加算側校正計測位置Ｐｍａと減算側校正計測位置Ｐｍｓとのうち目標位置Ｐｔとの差が小さい校正計測位置を選択し、前記選択した校正計測位置に前記対象物を移動させた校正位置制御信号Ｓｃの算出に用いた仮校正値を新たな基準校正値Ｃに設定する第２校正制御Ｓ２と、を行う。