VAPOR DEPOSITION APPARATUS AND PRODUCTION METHOD FOR DISPLAY DEVICE

• Main Authors: SUZUKI, Hideyuki, INUZUKA, Masahiro, ESUMI, Shinichi, NIBOSHI, Manabu
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 03.10.2024
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

This vapor deposition apparatus comprises a crucible, and the crucible includes an outer shell and an inner shell. The outer shell has openings for discharging a vapor deposition material toward a vapor deposition target. The inner shell is in contact with at least a part of the inner surface of the outer shell, and has a higher specific heat than the outer shell. Appareil de dépôt en phase vapeur comprenant un creuset, le creuset comprenant une enveloppe externe et une enveloppe interne. L'enveloppe externe présente des ouvertures pour faire sortir un matériau de dépôt en phase vapeur vers une cible de dépôt en phase vapeur. L'enveloppe interne est en contact avec au moins une partie de la surface interne de la coque externe, et présente une chaleur spécifique supérieure à celle de l'enveloppe externe. 蒸着装置は坩堝を備え、坩堝は外殻と内殻とを含む。外殻は、蒸着材を蒸着対象に向けて放出する開口部を有する。内殻は、外殻の内面の少なくとも一部と接し、かつ、外殻よりも比熱が高い。