SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD

• Main Authors: LEE, Chi Young, SON, Jin Chul, KIM, A Ram, YANG, Soo Yeong
• Format: Patent
• Language: English; French; Korean
• Published: 22.08.2024
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

A substrate processing apparatus of the present invention comprises: a chamber which has an inner space; a substrate support unit which supports a substrate in the inner space; a gas supply unit which supplies processing gas into the inner space; a window which covers the top of the inner space; an inner coil unit which is disposed above the window; an outer coil unit which is disposed above the window and formed to have a larger diameter than the inner coil unit; a power supply unit which applies high-frequency power to the inner coil unit and the outer coil unit; and an electromagnetic isolator which reduces the magnitude of an electromagnetic field in an overlapping region where the electromagnetic field of the inner coil part overlaps the electromagnetic field of the outer coil unit. Un appareil de traitement de substrat de la présente invention comprend : une chambre qui a un espace interne ; une unité de support de substrat qui supporte un substrat dans l'espace interne ; une unité d'alimentation en gaz qui fournit un gaz de traitement dans l'espace interne ; une fenêtre qui recouvre le haut de l'espace interne ; une unité de bobine interne qui est disposée au-dessus de la fenêtre ; une unité de bobine externe qui est disposée au-dessus de la fenêtre et formée de manière à avoir un diamètre supérieur à celui de l'unité de bobine interne ; une unité d'alimentation électrique qui applique une puissance à haute fréquence à l'unité de bobine interne et à l'unité de bobine externe ; et un isolateur électromagnétique qui réduit l'ampleur d'un champ électromagnétique dans une région de chevauchement où le champ électromagnétique de la partie de bobine interne chevauche le champ électromagnétique de l'unité de bobine externe. 본 발명의 기판 처리 장치는 내부 공간을 가지는 챔버; 상기 내부 공간에서 상기 기판을 지지하는 기판 지지 유닛; 상기 내부 공간으로 처리 가스를 공급하는 가스 공급 유닛; 상기 내부 공간의 상단을 덮는 윈도우; 상기 윈도우의 상부에 배치되는 내측 코일부; 상기 윈도우의 상부에 배치되며, 상기 내측 코일부보다 큰 직경으로 형성되는 외측 코일부; 상기 내측 코일부 및 상기 외측 코일부에 고주파 전력을 인가하는 전원부; 및, 상기 내측 코일부와 상기 외측 코일부 각각의 전자기필드가 중첩되는 중첩 영역에서의 전자기필드 크기를 감소시키는 전자기 분리체; 를 포함한다.