MECHATRONIC ELEMENT, MIRROR, MIRROR ARRANGEMENT AND METHOD FOR PRODUCTION OF SAME

• Main Authors: BROCH, Katharina, DEPPISCH, Sandra, ENKISCH, Hartmut, HAACKER, Fabian, SAROV, Yanko
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 22.08.2024
• Subjects: OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS

Die Erfindung betrifft ein mechatronisches Element, welches eine mechatronische Anordnung und eine Schutzschicht umfasst. Das mechatronische Element ist dadurch gekennzeichnet, dass die Schutzschicht mindestens teilweise aufgebracht ist auf mindestens einer Oberfläche und/oder mindestens teilweise innerhalb mindestens einer Kavität. Die Erfindung betrifft auch einen Einzelspiegel zur Reflektion von DUV- und/oder VUV- und/oder EUV-Strahlung welcher das erfindungsgemäße mechatronische Element und eine reflektierende Beschichtung umfasst, wobei die reflektierende Beschichtung mindestens teilweise auf einer Oberfläche aufgebracht ist. Die Erfindung betrifft auch ein Mikrospiegel-Array mit mindestens zwei erfindungsgemäßen Einzelspiegeln. Die Erfindung betrifft weiterhin einen Facettenspiegel mit mindestens zwei erfindungsgemäßen Mikrospiegel-Arrays. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Anlage der Halbleitertechnologie, umfassend mindestens einen erfindungsgemäßen Facettenspiegel. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen mechatronischen Elementes, sowie weiterhin ein Verfahren zur Herstellung eines erfindungsgemäßen Einzelspiegels. The invention relates to a mechatronic element which comprises a mechatronic arrangement and a protective layer. The mechatronic element is characterised in that the protective layer is at least partially applied to at least one surface and/or at least partially within at least one cavity. The invention also relates to an individual mirror for reflecting DUV and/or VUV and/or EUV radiation which comprises the mechatronic element according to the invention and a reflective coating, wherein the reflective coating is applied at least partially on a surface. The invention also relates to a micromirror array with at least two individual mirrors according to the invention. The invention also relates to a facet mirror with at least two micromirror arrays according to the invention. The invention also relates to a semiconductor technology system comprising at least one facet mirror according to the invention. The invention also relates to a method for producing a mechatronic element according to the invention, and to a method for producing an individual mirror according to the invention. L'invention concerne un élément mécatronique qui comprend un agencement mécatronique et une couche de protection. L'élément mécatronique est caractérisé en ce que la couche de protection est appliquée au moins partiellement sur au moins une surface et/ou au moins partiellement à l'intérieur d'au moins une cavité. L'invention concerne également un miroir individuel pour réfléchir des rayonnements DUV et/ou VUV et/ou EUV qui comprend l'élément mécatronique selon l'invention et un revêtement réfléchissant, le revêtement réfléchissant étant appliqué au moins partiellement sur une surface. L'invention concerne également un réseau de micromiroirs comprenant au moins deux miroirs individuels selon l'invention. L'invention concerne également un miroir à facettes comprenant au moins deux réseaux de micromiroirs selon l'invention. L'invention concerne également un système de technologie à semi-conducteur comprenant au moins un miroir à facettes selon l'invention. L'invention concerne également un procédé de production d'un élément mécatronique selon l'invention, ainsi qu'un procédé de production d'un miroir individuel selon l'invention.