PLASMA-ENHANCED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION REACTORS AND ASSOCIATED METHODS

Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) reactors and methods of fabricating polymers via PECVD processes are generally provided. In some embodiments, a PECVD reactor has one or more features that enhance the quality of the polymers that may be formed therein. Similarly, some methods are pe...

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Main Authors O'SHAUGHNESSY, W. Shannan, FERNANDEZ, Sergio, GRANT, Andrew, BLACK, Lucas
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 15.08.2024
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Summary:Plasma-enhanced chemical vapor deposition (PECVD) reactors and methods of fabricating polymers via PECVD processes are generally provided. In some embodiments, a PECVD reactor has one or more features that enhance the quality of the polymers that may be formed therein. Similarly, some methods are performed in a manner that enhances the quality of a polymer formed thereby. L'invention concerne généralement des réacteurs de dépôt chimique en phase vapeur activé par plasma (PECVD) et des procédés de fabrication de polymères par l'intermédiaire de procédés PECVD. Dans certains modes de réalisation, un réacteur PECVD présente une ou plusieurs caractéristiques qui améliorent la qualité des polymères pouvant être formés à l'intérieur de celui-ci. De même, certains procédés sont mis en oeuvre d'une manière qui améliore la qualité d'un polymère ainsi formé.
Bibliography:Application Number: WO2024US15412