METHOD FOR PRODUCING A MIRROR ASSEMBLY, AND COATING SYSTEM

• Main Authors: SCHICKETANZ, Thomas, AHREND, Florian
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 02.08.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Spiegelanordnung, sowie eine Beschichtungsanlage. Bei der Spiegelanordnung kann es sich insbesondere um eine Spiegelanordnung für die Mikrolithographie, z.B. für eine mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage, handeln. Bei einem erfindungsgemäßen Verfahren wird in einem in einer Beschichtungsanlage durchgeführten Beschichtungsprozess einer Mehrzahl von Spiegelsubstraten (106, 206, 306, 406) Beschichtungsmaterial von wenigstens einem Target (103, 203, 303, 403, 503) zur Deposition jeweils eines Schichtsystems auf jedem der Spiegelsubstrate (106, 206, 306, 406) zugeführt, wobei die Spiegelsubstrate (106, 206, 306, 406) zur individuellen Einstellung des in dem Beschichtungsprozess jeweils erzeugten Dickenprofils jeweils um einen für jedes Spiegelsubstrat individuell einstellbaren Kippwinkel verkippt werden. The invention relates to a method for producing a mirror assembly, as well as a coating system. The mirror assembly can be, in particular, a mirror assembly for microlithography, e.g. for a microlithographic projection exposure system. In a method according to the invention, in a coating process of a plurality of mirror substrates (106, 206, 306, 406) carried out in a coating system, coating material is supplied by at least one target (103, 203, 303, 403, 503) for the deposition of at least one respective layer system on each of the mirror substrates (106, 206, 306, 406), wherein the mirror substrates (106, 206, 306, 406) are each tilted by a tilt angle that can be individually adjusted for each mirror substrate in order to individually adjust the respective thickness profile generated in the coating process. L'invention concerne un procédé de fabrication d'un ensemble miroir, ainsi qu'un système de revêtement. L'ensemble miroir peut être, en particulier, un ensemble miroir pour la microlithographie, par exemple pour un système d'exposition par projection microlithographique. Dans un procédé selon l'invention, dans un processus de revêtement d'une pluralité de substrats de miroir (106, 206, 306, 406) réalisé dans un système de revêtement, un matériau de revêtement est fourni par au moins une cible (103, 203, 303, 403, 503) pour le dépôt d'au moins un système de couche respectif sur chacun des substrats de miroir (106, 206, 306, 406), les substrats de miroir (106, 206, 306, 406) étant chacun inclinés d'un angle d'inclinaison qui peut être réglé individuellement pour chaque substrat de miroir afin de régler individuellement le profil d'épaisseur respectif généré dans le processus de revêtement.