RADIATION BEAM SCANNING OPTICAL SYSTEM AND INSPECTION APPARATUS

• Main Authors: IKESU Masataka, MATSUMOTO Toru, UCHIKADO Akihito, NAKAMURA Tomonori, OKADA Tomoyuki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 25.07.2024
• Subjects: INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIRCHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES; MEASURING; PHYSICS; TESTING

In the present invention, an X-ray beam scanning optical system 10 comprises: an X-ray source 11 that outputs an X-ray beam R1 toward a semiconductor device 100; a first capillary lens 12 that converts the X-ray beam R1 output from the X-ray source 11 into an X-ray beam R2, which is a parallel X-ray; a second capillary lens 13 that focuses the X-ray beam R2 that has passed through the first capillary lens 12 onto the semiconductor device 100; and a shielding member 14 that is disposed between the X-ray source 11 and the semiconductor device 100. Furthermore, an inspection apparatus 1 comprises: a drive unit (here, the shielding member 14) that moves the second capillary lens 13; and a drive control unit 15 that controls the shielding member 14 to move the second capillary lens 13 so that the X-ray beam focused on the semiconductor device 100 is scanned, while maintaining a state in which the optical axis at an output end 12b of the first capillary lens 12 and the optical axis at an input end 13a of the second capillary lens 13 are parallel. Dans la présente invention, un système optique de balayage de faisceau de rayons X (10) comprend : une source de rayons X (11) qui produit un faisceau de rayons X (R1) vers un dispositif à semi-conducteur (100) ; une première lentille capillaire (12) qui convertit le faisceau de rayons X (R1) produit par la source de rayons X (11) en un faisceau de rayons X (R2), qui est un rayon X parallèle ; une seconde lentille capillaire (13) qui focalise le faisceau de rayons X (R2) qui a traversé la première lentille capillaire (12) sur le dispositif à semi-conducteur (100) ; et un élément de blindage (14) qui est disposé entre la source de rayons X (11) et le dispositif à semi-conducteur (100). En outre, un appareil d'inspection (1) comprend : une unité d'entraînement (ici, l'élément de blindage (14)) qui déplace la seconde lentille capillaire (13) ; et une unité de commande d'entraînement (15) qui commande l'élément de blindage (14) pour déplacer la seconde lentille capillaire (13) de sorte que le faisceau de rayons X focalisé sur le dispositif à semi-conducteur (100) est balayé, tout en maintenant un état dans lequel l'axe optique au niveau d'une extrémité de sortie (12b) de la première lentille capillaire (12) et l'axe optique au niveau d'une extrémité d'entrée (13a) de la seconde lentille capillaire (13) sont parallèles. Ｘ線ビーム走査光学系１０は、半導体デバイス１００に向けてＸ線ビームＲ１を出力するＸ線源１１と、Ｘ線源１１から出力されたＸ線ビームＲ１を平行Ｘ線であるＸ線ビームＲ２にする第１のキャピラリレンズ１２と、第１のキャピラリレンズ１２を通過したＸ線ビームＲ２を半導体デバイス１００に集光する第２のキャピラリレンズ１３と、Ｘ線源１１と半導体デバイス１００との間に配置される遮蔽部材１４と、を備える。更に、検査装置１は、第２のキャピラリレンズ１３を移動させる駆動部（ここでは遮蔽部材１４）と、第１のキャピラリレンズ１２の出射端１２ｂにおける光軸、及び、第２のキャピラリレンズ１３の入射端１３ａにおける光軸が平行になった状態を維持したまま、半導体デバイス１００に集光されるＸ線ビームが走査されるよう、第２のキャピラリレンズ１３を移動させるように、遮蔽部材１４を制御する駆動制御部１５と、を備える。