ACTINIC RAY-SENSITIVE OR RADIATION-SENSITIVE RESIN COMPOSITION

• Main Authors: ISHIHARA Hideyuki, TAKAHASHI Satomi, KURUMISAWA Yuma, FUKUHARA Toshiaki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 18.07.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

An actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing an ionic compound and a resin of which the main chain is decomposed by irradiation with actinic rays or radiation, wherein: with respect to a film A formed from the composition, and a film B obtained by exposing the film A to actinic rays or radiation such that the dissolution rate in butyl acetate is 0.1 nm/sec, the number average molecular weight of the resin in the film B is 50% or less of the number average molecular weight of the resin in the film A. L'invention concerne une composition de résine sensible aux rayons actiniques ou au rayonnement qui contient un composé ionique et une résine dont la chaîne principale est décomposée par irradiation avec des rayons actiniques ou avec un rayonnement. En ce qui concerne un film A formé à partir de la composition et un film B obtenu en exposant le film A à des rayons actiniques ou à un rayonnement de telle sorte que le taux de dissolution dans l'acétate de butyle est de 0,1 nm/sec, le poids moléculaire moyen en nombre de la résine dans le film B est inférieur ou égal à 50% du poids moléculaire moyen en nombre de la résine dans le film A. 活性光線又は放射線の照射により、主鎖が分解する樹脂と、イオン性化合物を含む感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であって、上記組成物により形成された膜Ａ、及び、上記膜Ａに対して、酢酸ブチルに対する溶解速度が０．１ｎｍ／秒となるように上記活性光線又は放射線により露光された膜Ｂについて、上記膜Ｂにおける樹脂の数平均分子量が、上記膜Ａにおける樹脂の数平均分子量の５０％以下である、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物。