PATTERN FORMING METHOD, PATTERN FORMING KIT, AND METHOD FOR MANUFACTURING ELECTRONIC DEVICE

• Main Authors: ISHIHARA Hideyuki, TAKAHASHI Satomi, FUJITA Mitsuhiro, KURUMISAWA Yuma, FUKUHARA Toshiaki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 11.07.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Provided are a pattern forming method exhibiting excellent LWR performance and resolution, a pattern forming kit, and a method for manufacturing an electronic device including the pattern forming method.　Provided are: a pattern forming method using a composition (A) that contains a resin (E), of which the main chain is decomposed by irradiation with actinic rays or radiation, and a compound (P), which is decomposed by irradiation with actinic rays or radiation, and that satisfies a specific relational expression; a pattern forming kit containing the composition (A) and a developer; and a method for manufacturing an electronic device. L'invention concerne un procédé de formation de motif présentant des performances LWR et une résolution qui sont excellentes, un kit de formation de motif et un procédé de fabrication de dispositif électronique comprenant le procédé de formation de motif.　L'invention concerne : un procédé de formation de motif utilisant une composition (A) qui contient une résine (E) dont la chaîne principale est décomposée par irradiation avec des rayons actiniques ou avec un rayonnement, et un composé (P) qui est décomposé par irradiation avec des rayons actiniques ou avec un rayonnement et qui satisfait une expression relationnelle spécifique ; un kit de formation de motif contenant la composition (A) et un révélateur ; et un procédé de fabrication de dispositif électronique. ＬＷＲ性能及び解像性に優れる、パターン形成方法、パターン形成用キット、及び上記パターン形成方法を含む電子デバイスの製造方法を提供する。　特定の関係式を満たす、活性光線又は放射線の照射により主鎖が分解する樹脂（Ｅ）と活性光線又は放射線の照射により分解する化合物（Ｐ）とを含有する組成物（Ａ）を用いたパターン形成方法、上記組成物（Ａ）と現像液を含むパターン形成用キット、及び電子デバイスの製造方法。