INDUCTIVELY COUPLED PLASMA LIGHT SOURCE WITH DIRECT GAS INJECTION

An ultraviolet light source with direct feed gas injection includes a chamber comprising a plasma confinement region and defining an aperture adjacent to the plasma confinement region that passes light generated by the plasma. A magnetic core is positioned around the plasma confinement region and is...

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Main Authors SMITH, Donald K, SAITO, Kosuke, NEFF, Wolfram, HORNE, Stephen F, RODERICK, Michael J
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 13.06.2024
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Summary:An ultraviolet light source with direct feed gas injection includes a chamber comprising a plasma confinement region and defining an aperture adjacent to the plasma confinement region that passes light generated by the plasma. A magnetic core is positioned around the plasma confinement region and is configured to generate a plurality of plasma current loops that converges in the plasma confinement region during operation. A feed gas injector is coupled to a gas port in the chamber and has an output that is positioned proximate to a boundary of the plasma confinement region so that the feed gas injector provides a feed gas to the plasma confinement region that creates a differential pressure in the plasma confinement region. A high voltage region is coupled to the plasma confinement region. An exhaust port is configured to be coupled to a pump that controls a pressure in the chamber. L'invention concerne une source de lumière ultraviolette à injection directe de gaz d'alimentation comprenant une chambre comprenant une région de confinement de plasma et définissant une ouverture adjacente à la région de confinement de plasma qui laisse passer la lumière générée par le plasma. Un noyau magnétique est positionné autour de la région de confinement de plasma et est configuré pour générer une pluralité de boucles de courant de plasma qui converge dans la région de confinement de plasma pendant le fonctionnement. Un injecteur de gaz d'alimentation est couplé à un orifice de gaz dans la chambre et a une sortie qui est positionnée à proximité d'une délimitation de la région de confinement de plasma de telle sorte que l'injecteur de gaz d'alimentation fournit un gaz d'alimentation à la région de confinement de plasma qui crée une pression différentielle dans la région de confinement de plasma. Une région haute tension est couplée à la région de confinement de plasma. Un orifice d'échappement est configuré pour être couplé à une pompe qui commande une pression dans la chambre.
Bibliography:Application Number: WO2023US81385