LIGHT CONTROL FILM WITH RANDOM NANOSTRUCTURED ETCH STOP

• Main Authors: GARTMANN, Timothy G, KENNEY, Raymond J, SCHMIDT, Daniel J, FORSYTHE, Benjamin J, THOMPSON, David S, NELSON, Caleb T
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 13.06.2024
• Subjects: OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS

A light control film includes a structured first major surface opposite a second major surface. The first major surface includes alternating first facets and second facets. Each of the first facets makes an average angle of less than 90 degrees with the second major surface. Each of the second facets makes an average angle of greater than 60 degrees with the second major surface. Each first facet is etched to form first nanostructured facets. Each of the first nanostructured facets includes nano-columns arranged across at least 70% of the first nanostructured facet. A coating layer coated on the first and second facets conforms to the nano-columns of the first nanostructured facets and has an average thickness of greater than 5 nm and less than 200 nm. A cover layer coated on coating layer portions corresponding to the second facets has an average thickness of greater than 0.05 microns. L'invention concerne un film de commande de lumière comprenant une première surface principale structurée opposée à une seconde surface principale. La première surface principale comprend des premières facettes et des secondes facettes alternées. Chacune des premières facettes forme un angle moyen inférieur à 90 degrés avec la seconde surface principale. Chacune des secondes facettes forme un angle moyen supérieur à 60 degrés avec la seconde surface principale. Chaque première facette est gravée pour former des premières facettes nanostructurées. Chacune des premières facettes nanostructurées comprend des nano-colonnes disposées à travers au moins 70 % de la première facette nanostructurée. Une couche de revêtement revêtue sur les première et seconde facettes est conforme aux nano-colonnes des premières facettes nanostructurées et a une épaisseur moyenne supérieure à 5 nm et inférieure à 200 nm. Une couche de revêtement revêtue sur des parties de couche de revêtement correspondant aux secondes facettes a une épaisseur moyenne supérieure à 0,05 micron.