DOSE CONTROL SYSTEM

• Main Authors: NOORDMAN, Oscar, MCGROGAN, Sean W
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 10.05.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

A control apparatus includes: a power controller configured to control an amount of energy in an exposure beam; and a tracking module configured to: determine an amount of accumulated energy of a region that moves through the exposure beam while the region is in the exposure beam; predict whether the accumulated energy of the region will exceed a dose limit prior to leaving the exposure beam; and if the accumulated energy of the region is predicted to exceed the dose limit, provide a control input to the power controller. Un appareil de régulation comprend : un dispositif de régulation de puissance conçu pour réguler une quantité d'énergie dans un faisceau d'exposition; et un module de suivi conçu pour : déterminer une quantité d'énergie accumulée d'une région qui se déplace à travers le faisceau d'exposition pendant que la région est dans le faisceau d'exposition; prédire si l'énergie accumulée de la région dépassera une limite de dose avant de sortir du faisceau d'exposition; et s'il est prédit que l'énergie accumulée de la région dépassera la limite de dose, fournir une entrée de régulation dans le dispositif de régulation de puissance.