EXPOSURE METHOD AND EXPOSURE DEVICE

• Main Author: NAKAI, Kazuhiro
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 21.03.2024
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

The present invention relates to an exposure method and an exposure device, the purpose of which is to enable exposure in both acceleration and deceleration periods during relative movement between an exposure part and a substrate holding part, and to thereby improve the takt time of the exposure process. An exposure part that outputs a light beam and a substrate holding part that holds a substrate are moved relative to each other to thereby scan an incident position of an output light beam on the substrate. The relative movement speed between the exposure part and the substrate holding part is calculated on the basis of a signal generated in conjunction with the relative movement, and exposure is performed by causing the laser beam to enter the substrate while changing the light quantity of the light beam in multiple stages at a prescribed control period. The control period and the maximum light quantity of the light beam are modified in accordance with the calculated relative movement speed. La présente invention concerne un procédé d'exposition et un dispositif d'exposition dont le but est de permettre de réaliser une exposition tant dans des périodes d'accélération que de décélération pendant un mouvement relatif entre une partie d'exposition et une partie de support de substrat, et d'ainsi améliorer le temps takt du processus d'exposition. Une partie d'exposition qui émet un faisceau lumineux et une partie de support de substrat qui maintient un substrat sont déplacées l'une par rapport à l'autre de façon à balayer une position incidente d'un faisceau lumineux de sortie sur le substrat. La vitesse de mouvement relatif entre la partie d'exposition et la partie de support de substrat est calculée sur la base d'un signal généré conjointement avec le mouvement relatif, et une exposition est effectuée en amenant le faisceau laser à pénétrer dans le substrat tout en modifiant la quantité de lumière du faisceau lumineux en de multiples étapes lors d'une période de commande prescrite. La période de commande et la quantité de lumière maximale du faisceau lumineux sont modifiées en fonction de la vitesse de mouvement relatif calculée. 本発明は露光方法および露光装置に関し、露光部と基板保持部との相対移動における加速および減速の期間についても露光を可能とし、これにより露光処理のタクトタイムを向上させることを目的とする。光ビームを出力する露光部と基板を保持する基板保持部とを相対移動させることで基板に対する出力光ビームの入射位置を走査し、相対移動に伴って発生する信号に基づき、露光部と基板保持部との相対移動速度を求め、光ビームの光量を所定の制御周期で多段階に変化させながら光ビームを基板に入射させて露光を行う。求められた相対移動速度に応じて、制御周期および光ビームの最大光量が変更される。