GENERATION DEVICE

• Main Authors: HORI Masaru, ODA Osamu
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 01.02.2024
• Subjects: AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUSPOLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; CRYSTAL GROWTH; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITHDEFINED STRUCTURE; SINGLE-CRYSTAL-GROWTH; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL ORUNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL

This generation device comprises: a plasma generation tube of which at least the surface is provided with a dielectric material; an antenna which includes a liner conductor and a dielectric material that is applied on the conductor; a high frequency power supply connected to the antenna; and a gas supply unit which supplies, inside the plasma generation tube, a gas for generating radicals or ions. The antenna is disposed while extending near another end of the plasma generation tube, and is disposed in a groove formed on an inner surface in an axis direction in at least a portion from one end of the plasma generation tube to near the other end, and is disposed in a groove formed on the inner surface in a circumferential direction in at least a portion near the other end of the plasma generation tube. L'invention concerne un dispositif de génération comprenant : un tube de génération de plasma dont au moins la surface est pourvue d'un matériau diélectrique ; une antenne qui comprend un conducteur de revêtement et un matériau diélectrique qui est appliqué sur le conducteur ; une alimentation électrique haute fréquence connectée à l'antenne ; et une unité d'alimentation en gaz qui fournit, à l'intérieur du tube de génération de plasma, un gaz pour générer des radicaux ou des ions. L'antenne est disposée tout en s'étendant à proximité d'une autre extrémité du tube de génération de plasma, et est disposée dans une rainure formée sur une surface interne dans une direction d'axe dans au moins une partie d'une extrémité du tube de génération de plasma à proximité de l'autre extrémité, et est disposée dans une rainure formée sur la surface interne dans une direction circonférentielle dans au moins une partie à proximité de l'autre extrémité du tube de génération de plasma. 発生装置は、少なくとも表面が誘電体により構成されたプラズマ生成管と、線状の導体と導体を被膜する誘電体とを含むアンテナと、アンテナに接続される高周波電源と、ラジカル又はイオンを発生させるためのガスをプラズマ生成管の内部に供給するガス供給部とを備える。アンテナは、プラズマ生成管の他端の近傍まで延伸して配置されており、アンテナは、プラズマ生成管の一端から他端の近傍までの少なくとも一部において、内側面に軸方向に形成された溝の中に配置されており、アンテナは、プラズマ生成管の他端の近傍の少なくとも一部において、内側面に周方向に形成された溝の中に配置される。