EXPOSURE DEVICE

• Main Authors: KATO, Masaki, FUJIMURA, Yoshihiko, MIZUNO, Yasushi, NAKASHIMA, Toshiharu
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 12.01.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

In order to realize highly accurate exposure with a high throughput, this exposure device comprises: a module including a substrate holder that holds and moves a substrate, a spatial light modulator having optical modulation elements arrayed two-dimensionally, an illumination unit that irradiates the spatial light modulator with illumination light, and a projection unit that guides the illumination light from the optical modulation elements to respective light irradiation area groups arrayed on the substrate two-dimensionally in a first direction and a second direction perpendicular to the first direction; and a control unit that drives the substrate holder in a scanning direction. The optical modulation elements are arrayed two-dimensionally at an incline of a prescribed angle θ (0°<θ<90°) with respect to the scanning direction and a non-scanning direction orthogonal to the scanning direction. When exposing a prescribed range of the substrate, the control unit scans the substrate holder at a speed such as where a staggered arrangement is formed by spot locations indicating the center of the illumination light which is emitted from each of the optical modulation elements and irradiates the prescribed range.　 Afin de réaliser une exposition très précise à haut débit, le présent dispositif d'exposition comprend : un module comprenant un support de substrat qui maintient et déplace un substrat, un modulateur spatial de lumière comportant des éléments de modulation optique disposés de façon bidimensionnelle, une unité d'éclairage qui irradie le modulateur spatial de lumière avec une lumière d'éclairage, et une unité de projection qui guide la lumière d'éclairage provenant des éléments de modulation optique vers des groupes de zones d'irradiation de lumière respectifs disposés en réseau de façon bidimensionnelle sur le substrat dans une première direction et dans une seconde direction perpendiculaire à la première direction ; et une unité de commande qui entraîne le support de substrat dans une direction de balayage. Les éléments de modulation optique sont disposés de façon bidimensionnelle selon une inclinaison d'un angle prescrit θ (0° < θ < 90°) par rapport à la direction de balayage et à une direction de non balayage qui est orthogonale à la direction de balayage. Lors de l'exposition d'une étendue prescrite du substrat, l'unité de commande balaye le support de substrat à une vitesse telle qu'un agencement en quinconce est formé par des emplacements de point indiquant le centre de la lumière d'éclairage qui est émise par chacun des éléments de modulation optique et elle irradie l'étendue prescrite.　 精度の高い露光を高スループットで実現するため、露光装置は、基板を保持して移動する基板ホルダと、２次元配列された光変調素子を有する空間光変調器と、前記空間光変調器に照明光を照射する照明ユニットと、前記基板上において第１方向及び前記第１方向に垂直な第２方向に２次元配列された光照射領域群のそれぞれへと前記光変調素子からの前記照明光を導く投影ユニットと、を含むモジュールと、前記基板ホルダを走査方向に駆動する制御部と、を備え、前記光変調素子は、前記走査方向及び該走査方向に直交する非走査方向に対して所定角度θ（０°＜θ＜９０°）傾斜し２次元配列され、前記制御部は、前記基板の所定範囲を露光する際に、前記所定範囲内に照射される前記光変調素子それぞれから出射される前記照明光の中心を示すスポット位置が千鳥配置となるような速度で、前記基板ホルダを走査する。