CONCENTRATION SENSOR FOR PRECURSOR DELIVERY SYSTEM

• Main Authors: UMMETHALA, Upendra, CHAKARIAN, Varoujan, SHAH, Vivek
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 05.01.2023
• Subjects: CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; CONTROLLING; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; PHYSICS; REGULATING; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; SYSTEMS FOR CONTROLLING OR REGULATING NON-ELECTRIC VARIABLES

A concentration sensor assembly can include a vaporization chamber having a compound. The concentration sensor assembly may include a first flow path coupled to the vaporization chamber. The first flow path may direct a first gas to the vaporization chamber. A second flow path can direct a second gas out of the vaporization chamber. The second gas can include the compound and the first gas. A first sensor is disposed along the first flow path. The first sensor measures first data indicative of a first mass flow rate of the first gas. A second sensor is disposed along the second flow path. The second sensor measure second data indicative of a second mass flow rate of the second gas. A computing device may determine a concentration of the vaporizable substance within the second gas based on the first data and the second data. L'invention concerne un ensemble capteur de concentration pouvant comprendre une chambre de vaporisation comportant un composé. L'ensemble capteur de concentration peut comprendre un premier trajet d'écoulement raccordé à la chambre de vaporisation. Le premier trajet d'écoulement peut diriger un premier gaz vers la chambre de vaporisation. Un second trajet d'écoulement peut diriger un second gaz hors de la chambre de vaporisation. Le second gaz peut comprendre le composé et le premier gaz. Un premier capteur est disposé le long du premier trajet d'écoulement. Le premier capteur mesure des premières données indiquant un premier débit massique du premier gaz. Un second capteur est disposé le long du second trajet d'écoulement. Le second capteur mesure des secondes données indiquant un second débit massique du second gaz. Un dispositif informatique peut déterminer une concentration de la substance vaporisable dans le second gaz sur la base des premières données et des secondes données.