METHOD FOR DEPOSITING A LAYER, OPTICAL ELEMENT, AND OPTICAL ASSEMBLY FOR THE DUV WAVELENGTH RANGE

• Main Author: SIX, Stephan
• Format: Patent
• Language: English; French; German
• Published: 05.01.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; CHEMISTRY; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATIONOR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY IONIMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; COATING METALLIC MATERIAL; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION INGENERAL; METALLURGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THESURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Abscheiden mindestens einer Schicht (2) einer Strahlung im DUV-Wellenlängenbereich reflektierenden oder antireflektierenden Beschichtung auf eine zu beschichtende Oberfläche (3a) eines Substrats (3) für ein optisches Element für den DUV- Wellenlängenbereich, umfassend: Überführen eines Beschichtungsmaterials (M) in die Gasphase in einer Beschichtungsquelle (4'), Bewegen des Substrats (3) relativ zur Beschichtungsquelle (4') entlang einer vorgegebenen Bewegungsbahn (5), wobei das Substrat (3) bei der Bewegung entlang der Bewegungsbahn (5) um eine Spinachse (7) rotiert und wobei zwischen der Beschichtungsquelle (4') und der zu beschichtenden Oberfläche (3a) ein Abdeckungselement (6) angeordnet ist, das die zu beschichtende Oberfläche (3a) bei der Bewegung des Substrats (5) entlang der Bewegungsbahn (5) zumindest teilweise abdeckt. Das Verfahren umfasst das Variieren einer Beschichtungsrate (RB) und/oder einer Rotationsgeschwindigkeit (ω(t)) der Spinachse (7) des Substrats (3) während der Bewegung des Substrats (3) entlang der Bewegungsbahn (5). Die Erfindung betrifft auch ein optisches Element für den DUV-Wellenlängenbereich, umfassend: ein Substrat (3), sowie eine auf das Substrat (3) aufgebrachte reflektierende oder antireflektierende Beschichtung, die mindestens eine durch das weiter oben beschriebene Verfahren abgeschiedene Schicht (2) aufweist, sowie eine optische Anordnung mit mindestens einem solchen optischen Element. The invention relates to a method for depositing at least one layer (2) of a coating, which is reflective or anti-reflective to radiation in the DUV wavelength range, onto a surface (3a) to be coated of a substrate (3) for an optical element for the DUV wavelength range, comprising: converting a coating material (M) into the gas phase in a coating source (4'), and moving the substrate (3) relative to the coating source (4') along a specified movement path (5), wherein the substrate (3) rotates about a spin axis (7) when moving along the movement path (5), and wherein a covering element (6) is located between the coating source (4') and the surface (3a) to be coated, which covering element at least in part covers the surface (3a) to be coated when the substrate (3) moves along the movement path (5). The method also comprises: varying a coating rate (RB) and/or a rotational speed (ω(t)) of the spin axis (7) of the substrate (3) when the substrate (3) moves along the movement path (5). The invention also relates to an optical element for the DUV wavelength range, comprising a substrate (3) and a reflective or anti-reflective coating which is applied to the substrate (3) and which has at least one layer (2) deposited by way of the method described above; and also to an optical assembly having at least one optical element of this kind. La présente invention concerne un procédé de dépôt d'au moins une couche (2) d'un revêtement, qui est réfléchissant ou antiréfléchissant pour un rayonnement dans la plage de longueurs d'onde DUV, sur une surface (3a) à revêtir d'un substrat (3) pour un élément optique pour la plage de longueurs d'onde DUV, comprenant : la conversion d'un matériau de revêtement (M) en phase gazeuse dans une source de revêtement (4'), et le déplacement du substrat (3) par rapport à la source de revêtement (4') le long d'un trajet de déplacement spécifié (5), le substrat (3) tournant autour d'un axe de rotation (7) lors du déplacement le long du trajet de déplacement (5), et un élément de recouvrement (6) étant situé entre la source de revêtement (4') et la surface (3a) à revêtir, ledit élément de recouvrement recouvrant au moins en partie la surface (3a) à revêtir lorsque le substrat (3) se déplace le long du trajet de déplacement (5). Le procédé comprend en outre : la variation d'un taux de revêtement (RB) et/ou d'une vitesse de rotation (ω(t)) de l'axe de rotation (7) du substrat (3) lorsque le substrat (3) se déplace le long du trajet de déplacement (5). L'invention concerne en outre un élément optique pour la plage de longueurs d'onde DUV, comprenant un substrat (3) et un revêtement réfléchissant ou antiréfléchissant qui est appliqué sur le substrat (3) et qui comporte au moins une couche (2) déposée au moyen du procédé décrit ci-dessus ; ainsi qu'un ensemble optique comportant au moins un élément optique de ce type.