DEFECT INSPECTING DEVICE, AND DEFECT INSPECTING METHOD

Provided are a defect inspecting device and a defect inspecting method with improved inspection determination accuracy. The defect inspecting method comprises an image acquisition step in which the defect inspecting device changes the relative postures of the object for inspection and the imaging un...

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Main Authors SEKI, Takateru, IMAIZUMI, Takamasa, KOBAYASHI, Yasuhiko, FUJIOKA, Takahiro
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 28.12.2023
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Summary:Provided are a defect inspecting device and a defect inspecting method with improved inspection determination accuracy. The defect inspecting method comprises an image acquisition step in which the defect inspecting device changes the relative postures of the object for inspection and the imaging unit, captures an image of the relative postures, and acquires a plurality of images; a feature acquisition step in which a specific feature obtained by scanning each of the plurality of images is acquired as a first feature amount; a waveform data acquisition step in which first waveform data is obtained, the first waveform data showing the first feature amounts obtained at respective relative posture, the feature amounts being arranged in the order of the changes in the relative posture; and a defect determination step in which defects are determined according to the first waveform data. L'invention concerne un dispositif d'inspection de défaut et un procédé d'inspection de défaut avec une précision de détermination d'inspection améliorée. Le procédé d'inspection de défaut comprend une étape d'acquisition d'image dans laquelle le dispositif d'inspection de défaut change les postures relatives de l'objet pour inspection et l'unité d'imagerie, capture une image des postures relatives, et acquiert une pluralité d'images ; une étape d'acquisition de caractéristiques dans laquelle une caractéristique spécifique obtenue par balayage de chacune de la pluralité d'images est acquise en tant que première quantité de caractéristiques ; une étape d'acquisition de données de forme d'onde dans laquelle des premières données de forme d'onde sont obtenues, les premières données de forme d'onde montrant les premières quantités de caractéristiques obtenues à une posture relative respective, les quantités de caractéristiques étant agencées dans l'ordre des changements de la posture relative ; et une étape de détermination de défaut dans laquelle des défauts sont déterminés selon les premières données de forme d'onde. 検査の判定精度を向上した欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供することにある。欠陥検査方法は、欠陥検査装置が、被検査物と撮像部の相対姿勢を変化させて、相対姿勢毎に撮像を行い、複数の画像を取得する画像取得ステップと、複数の画像をそれぞれ走査して得られる特定の特徴を第1特徴量として取得する特徴量取得ステップと、第1特徴量を相対姿勢の変化の順に並べた第1波形データを取得する波形データ取得ステップと、第1波形データに応じて欠陥の判定を行う欠陥判定ステップを有する。
Bibliography:Application Number: WO2023JP21136