SELF-CENTERING EDGE RING
An edge ring system for a substrate processing chamber includes a middle ring configured for arrangement around a substrate support. The edge ring system includes an outer ring portion, an inner ring portion, N arcuate openings arranged between the outer ring portion and the inner ring portion, wher...
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Format | Patent |
Language | English French |
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23.11.2023
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Summary: | An edge ring system for a substrate processing chamber includes a middle ring configured for arrangement around a substrate support. The edge ring system includes an outer ring portion, an inner ring portion, N arcuate openings arranged between the outer ring portion and the inner ring portion, where N is an integer greater than 1, N bridges connecting the outer ring portion and the inner ring portion between the N arcuate openings, and an annular cavity arranged on a radially inner surface of the outer ring portion. A cover ring is arranged in the annular cavity. A top edge ring is arranged above the middle ring between the cover ring and the inner ring portion and above the N arcuate openings and the N bridges of the middle ring.
Un système d'anneau périphérique pour une chambre de traitement de substrat inclut un anneau central configuré pour être disposé autour d'un support de substrat. Le système d'anneau périphérique inclut une partie d'anneau externe, une partie d'anneau interne, N ouvertures en forme d'arche disposées entre la partie d'anneau externe et la partie d'anneau interne, N étant un entier supérieur à 1, N ponts connectant la partie d'anneau externe et la partie d'anneau interne entre les N ouvertures en forme d'arche, et une cavité annulaire disposée sur une surface radialement interne de la partie d'anneau externe. Un anneau de recouvrement est disposé dans la cavité annulaire. Un anneau périphérique supérieur est disposé au-dessus de l'anneau central entre l'anneau de recouvrement et la partie d'anneau interne et au-dessus des N ouvertures en forme d'arc et des N ponts de l'anneau central. |
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Bibliography: | Application Number: WO2023US21828 |