TRIFLUOROMETHANE SULFONYLATION AGENT COMPOSITION AND METHOD FOR PRODUCING TRIFLUOROMETHANESULFONYLOXY COMPOUND OR TRIFLUOROMETHANE SULFONYL COMPOUND
The present disclosure provides: a trifluoromethane sulfonylation agent composition containing a compound represented by general formula (1) or (11) disclosed in the description; and a method for producing a trifluoromethanesulfonyloxy compound or a method for producing a trifluoromethane sulfonyl c...
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Format | Patent |
Language | English French Japanese |
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09.11.2023
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Summary: | The present disclosure provides: a trifluoromethane sulfonylation agent composition containing a compound represented by general formula (1) or (11) disclosed in the description; and a method for producing a trifluoromethanesulfonyloxy compound or a method for producing a trifluoromethane sulfonyl compound, said methods for causing the trifluoromethane sulfonylation agent composition to react with a specific substrate or a compound represented by general formula (2) disclosed in the description.
La présente invention concerne : une composition d'agent de sulfonylation de trifluorométhane contenant un composé représenté par la formule générale (1) ou (11) décrite dans la description ; et un procédé de production d'un composé trifluorométhanesulfonyloxy ou un procédé de production d'un composé trifluorométhane sulfonyle, lesdits procédés permettant d'amener la composition d'agent de sulfonylation de trifluorométhane à réagir avec un substrat spécifique ou un composé représenté par la formule générale (2) décrite dans la description.
本開示は、明細書中に記載の一般式(1)又は(11)で表される化合物を含むトリフルオロメタンスルホニル化剤組成物、及び上記トリフルオロメタンスルホニル化剤組成物を明細書中に記載の一般式(2)で表される化合物、又は特定の基質と反応させる、トリフルオロメタンスルホニルオキシ化合物の製造方法、又はトリフルオロメタンスルホニル化合物の製造方法を提供する。 |
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Bibliography: | Application Number: WO2023JP16923 |