RADIATION TOLERANT DETECTOR ARCHITECTURE FOR CHARGED PARTICLE DETECTION
A detector for a scanning electron microscope (SEM) system comprises a semiconductor substrate, and a switching network formed on the semiconductor substrate and comprising a radiation hardened NMOS transistor, the NMOS transistor comprising a first source/drain diffusion region, a second source/dra...
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Format | Patent |
Language | English French |
Published |
09.11.2023
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Summary: | A detector for a scanning electron microscope (SEM) system comprises a semiconductor substrate, and a switching network formed on the semiconductor substrate and comprising a radiation hardened NMOS transistor, the NMOS transistor comprising a first source/drain diffusion region, a second source/drain diffusion region, and a gate patterned on the semiconductor substrate and encircling one of the first and second source/drain diffusion regions.
L'invention concerne un détecteur pour un système de microscope électronique à balayage (MEB), lequel détecteur comprend un substrat semi-conducteur, et un réseau de commutation formé sur le substrat semi-conducteur et comprenant un transistor NMOS durci par rayonnement, le transistor NMOS comprenant une première région de diffusion de source/drain, une seconde région de diffusion de source/drain, et une grille dessinée sur le substrat semi-conducteur et encerclant l'une ou l'autre des première et seconde régions de diffusion de source/drain. |
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Bibliography: | Application Number: WO2023EP59349 |