RADIATION TOLERANT DETECTOR ARCHITECTURE FOR CHARGED PARTICLE DETECTION

A detector for a scanning electron microscope (SEM) system comprises a semiconductor substrate, and a switching network formed on the semiconductor substrate and comprising a radiation hardened NMOS transistor, the NMOS transistor comprising a first source/drain diffusion region, a second source/dra...

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Main Authors VOLLMER, Bernd Michael, BEX, Jan, OBERST, Matthias, MOOK, Hindrik, NEUBAUER, Harald Gert Helmut, ULUDAG, Utku, SCHWEIGER, Thomas
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 09.11.2023
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Summary:A detector for a scanning electron microscope (SEM) system comprises a semiconductor substrate, and a switching network formed on the semiconductor substrate and comprising a radiation hardened NMOS transistor, the NMOS transistor comprising a first source/drain diffusion region, a second source/drain diffusion region, and a gate patterned on the semiconductor substrate and encircling one of the first and second source/drain diffusion regions. L'invention concerne un détecteur pour un système de microscope électronique à balayage (MEB), lequel détecteur comprend un substrat semi-conducteur, et un réseau de commutation formé sur le substrat semi-conducteur et comprenant un transistor NMOS durci par rayonnement, le transistor NMOS comprenant une première région de diffusion de source/drain, une seconde région de diffusion de source/drain, et une grille dessinée sur le substrat semi-conducteur et encerclant l'une ou l'autre des première et seconde régions de diffusion de source/drain.
Bibliography:Application Number: WO2023EP59349