PASSIVE ALIGNMENT CONFIGURATION FOR USE WITH OPTICAL WAVEGUIDES FORMED WITHIN ADJOINING SUBSTRATES

Passive alignment between separate optical subassemblies is facilitated by the use of a waveguiding interface component formed to exhibit a stack of layers (oxide layers, metal layers, waveguiding layer(s)) in a specific order and with dimensions controlled such that an optical subassembly formed to...

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Main Authors LEONHARTSBERGER, Alan, TYAGARAJAN, Sriram, SNYDER, David, SHASTRI, Kalpendu, KACHRU, Ravinder, YELAMARTY, Rao, SHASTRI, Anujit
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 02.11.2023
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Summary:Passive alignment between separate optical subassemblies is facilitated by the use of a waveguiding interface component formed to exhibit a stack of layers (oxide layers, metal layers, waveguiding layer(s)) in a specific order and with dimensions controlled such that an optical subassembly formed to include a like stack may be joined in an upside-down adjoined arrangement to provide passive alignment between their respective waveguiding layers. The use of vertical stacks of the same height, with the waveguiding layers disposed at referenced positions with respect to the midpoint of the stack provides the passive alignment in the Y-Z plane. Mating fiducials may be included on the elements to provide X-direction alignment. The vertical stacks of a same height H allows for a top surface of one stack to be disposed on an exposed substrate surface of the other such that the waveguiding layers are passively aligned. L'alignement passif entre les sous-ensembles optiques séparés est facilité par l'utilisation d'un composant d'interface de guidage d'ondes formé pour présenter un empilement de couches (couches d'oxyde, couches métalliques, couche(s) de guidage d'ondes) dans un ordre spécifique et avec des dimensions commandées de telle sorte qu'un sous-ensemble optique formé pour comprendre un empilement similaire peut être joint dans un agencement adjacent à l'envers pour fournir un alignement passif entre leurs couches de guidage d'ondes respectives. L'utilisation d'empilements verticaux de même hauteur, les couches de guidage d'ondes disposées à des positions référencées par rapport au point médian de l'empilement fournissant l'alignement passif dans le plan Y-Z. Des repères d'accouplement peuvent être inclus sur les éléments pour fournir un alignement dans la direction X. Les empilements verticaux d'une même hauteur H permettent à une surface supérieure d'un empilement d'être disposée sur une surface de substrat exposée de l'autre de telle sorte que les couches de guidage d'ondes sont alignées passivement.
Bibliography:Application Number: WO2023US19762