RESIN COMPOSITION FOR OPTICAL WAVEGUIDE, AND DRY FILM AND OPTICAL WAVEGUIDE USING SAME

• Main Authors: KONDO, Naoyuki, YAMAGUCHI, Atsushi, KURIZOE, Junko, YOSHIDA, Aya, TANAKA, Maki
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.11.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONSONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

One aspect of the present invention relates to a resin composition for an optical waveguide, the resin composition containing an epoxy resin (A) and a photoacid generator (B). The epoxy resin (A) contains: a polyfunctional epoxy resin (a-1) that has three or more epoxy groups and an epoxy-equivalent weight of 250 g/eq or less; and a bisphenol A-type epoxy resin (a-2). The photoacid generator (B) contains an antimony-based photoacid generator. Un aspect de la présente invention concerne une composition de résine pour un guide d'ondes optique, la composition de résine contenant une résine époxy (A) et un générateur de photoacide (B). La résine époxy (A) contient : une résine époxy polyfonctionnelle (a-1) qui a au moins trois groupes époxy et un poids équivalent époxy inférieur ou égal à 250 g/éq ; et une résine époxy de type bisphénol A (a-2). Le générateur de photoacide (B) contient un générateur de photoacide à base d'antimoine. 本発明の一局面は、エポキシ樹脂（Ａ）と光酸発生剤（Ｂ）とを含有し、エポキシ樹脂（Ａ）は、エポキシ基を３個以上有し且つエポキシ当量が２５０ｇ／ｅｑ以下である多官能エポキシ樹脂（ａ－１）と、ビスフェノールＡ型エポキシ樹脂（ａ－２）とを含有し、光酸発生剤（Ｂ）はアンチモン系光酸発生剤を含有する、光導波路用樹脂組成物に関する。