RADIATIVE HEAT WINDOWS AND WAFER SUPPORT PADS IN VAPOR ETCH REACTORS

• Main Authors: KAWAGUCHI, Mark Naoshi, MUI, David S. L, PARIMI, Venkata Sharat Chandra, CORD, Bryan Michael, BERNEY, Butch, AMBUROSE, Gnanamani, KALINOVSKI, Ilia
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 05.10.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; SEMICONDUCTOR DEVICES

An apparatus may include: (a) a processing chamber including chamber walls and a chamber heater configured to heat the chamber walls; and (b) a pedestal positioned within the chamber interior and including: (i) a substrate heater having a plurality of light emitting diodes (LEDs), (ii) a window positioned above the substrate heater comprising a material transparent to light from the LEDs, and (iii) three or more substrate support pads, each substrate support, pad having a substrate support surface vertically offset from the window and configured to support a substrate such that the window and the substrate supported by the three or more substrate support pads are offset by a nonzero distance. L'invention concerne un appareil pouvant comprendre : (a) une chambre de traitement comprenant des parois de chambre et un dispositif de chauffage de chambre conçu pour chauffer les parois de la chambre ; et (b) un piédestal positionné à l'intérieur de la chambre et comprenant : (i) un dispositif de chauffage du substrat comportant plusieurs diodes électroluminescentes (DEL), (ii) une fenêtre placée au-dessus du dispositif de chauffage du substrat et composée d'un matériau transparent à la lumière des DEL, et (iii) au moins trois plaques de support du substrat, chaque plaque de support du substrat présentant une surface de support du substrat décalée verticalement par rapport à la fenêtre et configurée pour supporter un substrat de telle sorte que la fenêtre et le substrat supporté par les trois plaques de support du substrat ou plus soient décalés d'une distance non nulle.