MICROPARTICLES AND METHOD FOR PRODUCING MICROPARTICLES

• Main Authors: WATANABE Shu, SUEYASU Shiori
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 05.10.2023
• Subjects: CHEMISTRY; COMPOUNDS THEREOF; INORGANIC CHEMISTRY; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; METALLURGY; NANOTECHNOLOGY; NON-METALLIC ELEMENTS; PERFORMING OPERATIONS; SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; TRANSPORTING

Provided are microparticles having excellent plasma resistance and a method for producing microparticles. The microparticles contain SiC and Si, have a particle diameter of 80 mn or less, and demonstrate a weight loss ratio of 9 mass% or less and a hydrophilization degree of 30% or less. L'invention concerne des microparticules présentant une excellente résistance au plasma et un procédé de production de microparticules. Les microparticules contiennent SiC et Si, présentent un diamètre de particule de 80 mn ou moins, et font preuve d'un rapport de perte de poids de 9 % en masse ou moins et d'un degré d'hydrophilisation de 30 % ou moins. プラズマ耐性に優れた微粒子及び微粒子の製造方法を提供する。微粒子は、ＳｉＣとＳｉとを含み、粒径が８０ｎｍ以下、重量減少割合が９質量％以下であり、親水化度が３０％以下である。