ELASTIC WAVE DEVICE

Provided is an elastic wave device which can improve heat resistance and electric power resistance of an IDT electrode. The elastic wave device 1 is provided with: a piezoelectric substrate 2; and an IDT electrode 3 provided on the piezoelectric substrate 2. When a metal element as a base element is...

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Main Author HAYASHI, Yasunobu
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 05.10.2023
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Summary:Provided is an elastic wave device which can improve heat resistance and electric power resistance of an IDT electrode. The elastic wave device 1 is provided with: a piezoelectric substrate 2; and an IDT electrode 3 provided on the piezoelectric substrate 2. When a metal element as a base element is denoted as A, and an element as an additive is denoted as B, the IDT electrode 3 has a layer using an electrode material containing the base element A and the additive B. When x and y each represent an arbitrarily defined positive number, a phase of a compound represented by AxBy is included in a region where the concentration of the additive B is at most 50 at%, in a binary phase diagram of the base element A and the additive B. In the binary phase diagram, when the melting point of the base element A is denoted as Ta, the melting point of the additive B is denoted as Tb, and the melting point of the compound AxBy is denoted as Tc, Ta<Tc and Tb-Ta<300°C are satisfied. In the electrode material, the compound AxBy is segregated in the base element A. In the electrode material, the crystal particle diameter of the base element A and the crystal particle diameter of the compound AxBy are 10-100 nm. L'invention concerne un dispositif à ondes élastiques qui peut améliorer la résistance à la chaleur et la résistance à l'énergie électrique d'une électrode IDT. Un dispositif à ondes élastiques (1) comporte : un substrat piézoélectrique (2) ; et une électrode IDT (3) disposée sur le substrat piézoélectrique (2). Lorsqu'un élément métallique en tant qu'élément de base est désigné A, et un élément en tant qu'additif est désigné B, l'électrode IDT (3) présente une couche utilisant un matériau d'électrode contenant l'élément de base A et l'additif B. Lorsque x et y représentent chacun un nombre positif défini arbitrairement, une phase d'un composé représenté par AxBy est incluse dans une région où la concentration de l'additif B est d'au plus 50 % atomique, dans un diagramme de phase binaire de l'élément de base A et de l'additif B. Dans le diagramme de phase binaire, lorsque le point de fusion de l'élément de base A est désigné Ta, le point de fusion de l'additif B est désigné Tb, et le point de fusion du composé AxBy est désigné Tc, Ta < Tc et Tb-Ta < 300 °C sont satisfaits. Dans le matériau d'électrode, le composé AxBy est séparé dans l'élément de base A. Dans le matériau d'électrode, le diamètre de particule cristalline de l'élément de base A et le diamètre de particule cristalline du composé AxBy sont de 10 à 100 nm. IDT電極の耐熱性及び耐電力性を高めることができる、弾性波装置を提供する。 弾性波装置1は、圧電性基板2と、圧電性基板2上に設けられているIDT電極3とを備える。IDT電極3は、母元素である金属元素をA、添加物である元素をBとしたときに、母元素A及び添加物Bを含む電極材料が用いられた層を有する。x及びyを任意の正数としたときに、母元素A及び添加物Bの2元状態図における、添加物Bの濃度が50at%以下である領域において、AxByにより表わされる化合物の状態が含まれる。2元状態図において、母元素Aの融点をTa、添加物Bの融点をTb、化合物AxByの融点をTcとしたときに、Ta<Tcであり、かつTb-Ta<300℃である。電極材料において、母元素A中に化合物AxByが偏析している。電極材料において、母元素Aの結晶粒径及び化合物AxByの結晶粒径が、10nm以上、100nm以下である。
Bibliography:Application Number: WO2023JP06762