DRYING SYSTEM AND PRINTING SYSTEM

• Main Authors: TAKADA, Kensuke, KIMURA, Yoichi, MITSUYASU, Takashi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 21.09.2023
• Subjects: APPARATUS FOR APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TOSURFACES, IN GENERAL; APPLYING LIQUIDS OR OTHER FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL; BLASTING; CONVEYING; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS; DRYING; DRYING SOLID MATERIALS OR OBJECTS BY REMOVING LIQUID THEREFROM; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS,CABLES; HEATING; i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; LIGHTING; LINING MACHINES; MECHANICAL ENGINEERING; PACKING; PERFORMING OPERATIONS; PRINTING; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS; SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; STAMPS; STORING; TRANSPORTING; TYPEWRITERS; WEAPONS

The objective of the present invention is to provide a drying system and a printing system in which a drying zone supporting substrates having a wide range of absorption rates is formed. The abovementioned problem is resolved by means of a drying system for drying a substrate having a first surface to which a liquid has been applied, and which is being conveyed along a conveying route, wherein: a second drying zone in which a second heating device for drying a high-absorbency substrate having a relatively high liquid absorption rate is disposed is formed further to an upstream side, on the conveying route, than a contact roller that is in contact with the first surface having the liquid applied thereto; and a first drying zone in which a first heating device for drying a low-absorbency substrate having a relatively low liquid absorption rate is disposed can additionally be formed further to the upstream side, on the conveying route, than the contact roller. L'objet de la présente invention est de fournir un système de séchage et un système d'impression dans lesquels une zone de séchage soutenant des substrats ayant une large plage de taux d'absorption est formée. Le problème susmentionné est résolu au moyen d'un système de séchage servant à sécher un substrat ayant une première surface sur laquelle un liquide a été appliqué, et qui est transporté sur un itinéraire de transport. Une seconde zone de séchage dans laquelle un second dispositif de chauffage destiné à sécher un substrat à haute capacité d'absorption ayant un taux d'absorption de liquide relativement élevé étant disposée plus vers un côté amont, sur l'itinéraire de transport, qu'un rouleau de contact qui est en contact avec la première surface sur laquelle est appliqué le liquide ; et une première zone de séchage dans laquelle un premier dispositif de chauffage destiné à sécher un substrat à faible absorbance ayant un taux d'absorption de liquide relativement faible est disposé pouvant en outre être formée plus vers le côté amont, sur l'itinéraire de transport, que le rouleau de contact. 幅広い吸収率の基材に対応させた乾燥ゾーンを構成する乾燥システム、及び印刷システムを提供する。第１の面に液体が付与されて搬送経路に沿って搬送される基材を乾燥させる乾燥システムであって、液体が付与された第１の面に接触する接触ロールより搬送経路の上流側に、液体の吸収率が相対的に高い高吸収性基材を乾燥させるための第２の加熱装置が配置された第２の乾燥ゾーンが構成され、接触ロールより搬送経路の上流側に、液体の吸収率が相対的に低い低吸収性基材を乾燥させるための第１の加熱装置が配置された第１の乾燥ゾーンを追加で構成可能な乾燥システムによって上記課題を解決する。