GAS LASER APPARATUS CHAMBER AND ELECTRONIC DEVICE PRODUCTION METHOD

In this gas laser apparatus chamber, the distance to a first end from a virtual axis, which extends between a first main electrode and a second main electrode along a predetermined direction, increases from the one side to the other side in the predetermined direction, and the distance from the virt...

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Main Authors SASAKI Yoichi, UMEDA Hiroshi, KAKIZAKI Kouji
Format Patent
LanguageEnglish
French
Japanese
Published 21.09.2023
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Summary:In this gas laser apparatus chamber, the distance to a first end from a virtual axis, which extends between a first main electrode and a second main electrode along a predetermined direction, increases from the one side to the other side in the predetermined direction, and the distance from the virtual axis to a second end decreases from the one side to the other side in the predetermined direction. Dans cette chambre d'appareil laser à gaz, la distance jusqu'à une première extrémité à partir d'un axe virtuel, qui s'étend entre une première électrode principale et une seconde électrode principale le long d'une direction prédéterminée, augmente d'un côté à l'autre côté dans la direction prédéterminée, et la distance de l'axe virtuel à une seconde extrémité diminue d'un côté à l'autre côté dans la direction prédéterminée. ガスレーザ装置のチャンバでは、第1主電極及び第2主電極の間において所定方向に沿って延在する仮想軸から第1端部までの距離は、所定方向における一方側から他方側に向かって長くなり、仮想軸から第2端部までの距離は、所定方向における一方側から他方側に向かって短くなる。
Bibliography:Application Number: WO2022JP11659