SYSTEMS AND METHODS FOR GENERATING POST-POLISHING TOPOGRAPHY FOR ENHANCED WAFER MANUFACTURING

• Main Authors: KHALAJZADEH, Vahid, BHAGAVAT, Sumeet S
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 31.08.2023
• Subjects: CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; CONTROLLING; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS; PHYSICS; REGULATING

A computer device is programmed to store a model for converting shape maps to simulate a portion of an assembly line, receive scan data of a first inspection of a product being assembled, generate a shape map from the scan data of the first inspection, execute the model using the shape map as an input to generate a final shape map of the product, compare the final shape map to one or more thresholds, determine if the final shape map exceeds at least one of the one or more thresholds, and if the determination is that the final shape map exceeds at least one of the one or more thresholds, cause the first device to be adjusted. Selon l'invention, un dispositif informatique est programmé pour stocker un modèle permettant de convertir des cartes de forme pour simuler une partie d'une ligne d'assemblage, recevoir des données de balayage d'une première inspection d'un produit en cours d'assemblage, produire une carte de forme à partir des données de balayage de la première inspection, exécuter le modèle en utilisant la carte de forme en tant qu'entrée pour générer une carte de forme finale du produit, comparer la carte de forme finale avec un ou plusieurs seuils, déterminer si la carte de forme finale dépasse au moins un du ou des seuils, et s'il est déterminé que la carte de forme finale dépasse au moins un du ou des seuils, provoquer le réglage du premier dispositif.