SUBSTRATE PROCESSING DEVICE MANAGEMENT SYSTEM, SUBSTRATE PROCESSING DEVICE MANAGEMENT METHOD, AND SUBSTRATE PROCESSING DEVICE MANAGEMENT PROGRAM

• Main Authors: UENO, Tomohiro, MATSUI, Hiroakira, INAGI, Dai, YOSHIHARA, Koki, ONO, Takuya, SEIWA, Takaaki, NAKANO, Yuta
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 20.07.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; CONTROL OR REGULATING SYSTEMS IN GENERAL; CONTROLLING; ELECTRIC SOLID STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; FUNCTIONAL ELEMENTS OF SUCH SYSTEMS; MONITORING OR TESTING ARRANGEMENTS FOR SUCH SYSTEMS ORELEMENTS; PHYSICS; REGULATING; SEMICONDUCTOR DEVICES

In this substrate processing device management system, a plurality of processing information items indicating an operation or state associated with the processing of a substrate are collected from each of a plurality of substrate processing devices. With respect to each substrate processing device, the degree of abnormality in the substrate processing device is calculated as an abnormality score, on the basis of an invariant relationship between the plurality of processing information items and the plurality of processing information items collected from the substrate processing device. In a management device, an investigation request concerning abnormality is received from each substrate processing device. When two or more investigation requests have been received, the abnormality scores for the substrate processing devices corresponding to the investigation requests are acquired. On the basis of a plurality of abnormality scores acquired, priority order information concerning a priority order in which the two or more investigation requests should be responded is presented to a manager. Dans ce système de gestion de dispositifs de traitement de substrat, une pluralité d'éléments d'informations de traitement indiquant une opération ou un état associé au traitement d'un substrat sont collectés auprès de chaque dispositif parmi une pluralité de dispositifs de traitement de substrat. En ce qui concerne chaque dispositif de traitement de substrat, un degré d'anomalie dans le dispositif de traitement de substrat est calculé en tant que score d'anomalie, sur la base d'une relation invariante entre la pluralité d'éléments d'informations de traitement et la pluralité d'éléments d'informations de traitement collectés auprès du dispositif de traitement de substrat. Dans un dispositif de gestion, une demande d'investigation concernant une anomalie est reçue en provenance de chaque dispositif de traitement de substrat. Lorsqu'au moins deux demandes d'investigation ont été reçues, les scores d'anomalie pour les dispositifs de traitement de substrat correspondant aux demandes d'investigation sont acquis. Sur la base d'une pluralité de scores d'anomalie acquis, des informations d'ordre de priorité concernant un ordre de priorité dans lequel il faut répondre aux deux demandes d'investigation ou plus sont présentées à un responsable. 基板処理装置管理システムにおいては、複数の基板処理装置の各々から基板の処理に関連する動作または状態を示す複数の処理情報が収集される。各基板処理装置について、複数の処理情報間のインバリアントな関係と当該基板処理装置から収集される複数の処理情報とに基づいて当該基板処理装置の異常の度合いが異常スコアとして算出される。管理装置においては、各基板処理装置から異常に関する調査依頼が受け付けられる。２以上の調査依頼が受け付けられたときに、それらの調査依頼に対応する基板処理装置の異常スコアが取得される。取得された複数の異常スコアに基づいて、２以上の調査依頼に対して応答すべき優先順位に関する優先順位情報が管理者に提示される。