A SYSTEM FOR USE IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS

A system for use in a lithographic apparatus comprises: a substrate table; another device; and at least one deformable partition. The substrate table (for example a wafer stage) is arranged to support a substrate. The system is configurable in a first configuration such that a surface of the device...

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Main Authors DE HOOGH, Joost, VAN DEN AKKER, Emericus, LABETSKI, Dzmitry, HUANG, Zhuangxiong, HAZARI, Syed Aaquib, DE VRIES, Sjoerd
Format Patent
LanguageEnglish
French
Published 20.07.2023
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Summary:A system for use in a lithographic apparatus comprises: a substrate table; another device; and at least one deformable partition. The substrate table (for example a wafer stage) is arranged to support a substrate. The system is configurable in a first configuration such that a surface of the device faces and is adjacent to the substrate and the substrate table. The at least one deformable partition either: (a) extends partially from the substrate table towards the surface of the device when the system is in the first configuration; or (b) extends partially from the surface of the device that faces and is adjacent to the substrate and the substrate table when the system is in the first configuration towards the substrate table. Un système destiné à être utilisé dans un appareil lithographique comprend : une table de substrat ; un autre dispositif ; et au moins une cloison déformable. La table de substrat (une platine de tranche, par exemple) est disposée de façon à supporter un substrat. Le système peut être configuré selon une première configuration qui est telle qu'une surface du dispositif fait face et est adjacente au substrat et à la table de substrat. La ou les cloisons déformables peuvent : (a) s'étendre partiellement vers la surface du dispositif à partir de la table de substrat lorsque le système est dans la première configuration ; ou (b) s'étendre partiellement vers la table de substrat à partir de la surface du dispositif qui fait face et qui est adjacente au substrat et à la table de substrat lorsque le système est dans la première configuration.
Bibliography:Application Number: WO2022EP87216