OPTICAL FILTER AND STERILIZATION DEVICE

• Main Author: HIMEI, Yusuke
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.06.2023
• Subjects: CHEMICAL ASPECTS OF BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS, ORSURGICAL ARTICLES; DISINFECTION, STERILISATION, OR DEODORISATION OF AIR; HUMAN NECESSITIES; HYGIENE; MATERIALS FOR BANDAGES, DRESSINGS, ABSORBENT PADS, OR SURGICALARTICLES; MEDICAL OR VETERINARY SCIENCE; METHODS OR APPARATUS FOR STERILISING MATERIALS OR OBJECTS INGENERAL; OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS, OR APPARATUS; OPTICS; PHYSICS

The present invention provides an optical filter which is capable of effectively transmitting ultraviolet light that has a wavelength of 220 nm to 225 nm, while suppressing transmission of ultraviolet light that has a wavelength of 240 nm to 320 nm.　An optical filter 1 according to the present invention is provided with a transparent base material 2 and a multilayer dielectric film 3 that contains hafnium oxide and is arranged on the transparent base material 2; and if Ic is the diffraction intensity of a diffraction peak of the (1 1 1) crystal plane associated with a cubic hafnium oxide crystal, Im is the diffraction intensity of a diffraction peak of the (-1 1 1) crystal plane associated with a monoclinic hafnium oxide crystal, and Ia is the diffraction intensity of a diffraction peak associated with an amorphous hafnium oxide, the crystallization parameter P obtained by formula (1) is 0.7 or more.　(1): P = (2 × Ic + Im)/(Ic + Im + Ia) La présente invention concerne un filtre optique qui est capable de transmettre efficacement une lumière ultraviolette qui a une longueur d'onde de 220 nm à 225 nm, tout en supprimant la transmission de lumière ultraviolette qui a une longueur d'onde de 240 nm à 320 nm.　Un filtre optique 1 selon la présente invention est pourvu d'un matériau de base transparent 2 et d'un film diélectrique multicouche 3 qui contient de l'oxyde d'hafnium et est disposé sur le matériau de base transparent 2 ; et si Ic est l'intensité de diffraction d'un pic de diffraction du plan cristallin (1 1 1) associé à un cristal d'oxyde d'hafnium cubique, Im est l'intensité de diffraction d'un pic de diffraction du plan cristallin (-1 1 1) associé à un cristal d'oxyde d'hafnium monoclinique, et Ia est l'intensité de diffraction d'un pic de diffraction associé à un oxyde d'hafnium amorphe, le paramètre de cristallisation P obtenu par la formule (1) est supérieur ou égal à 0,7.　(1) : P = (2 × Ic + Im)/(Ic + Im + Ia) 波長２４０ｎｍ～３２０ｎｍにおける紫外線の透過を抑制しつつ、波長２２０ｎｍ～２２５ｎｍにおける紫外線を効果的に透過させることができる、光学フィルタを提供する。　透明基材２と、透明基材２上に設けられており、酸化ハフニウムを含む、誘電体多層膜３とを備え、Ｘ線回折測定において、立方晶系酸化ハフニウム結晶に由来する（１　１　１）結晶面による回折ピークの回折強度をＩｃとし、単斜晶系酸化ハフニウム結晶に由来する（－１　１　１）結晶面による回折ピークの回折強度をＩｍとし、非晶質酸化ハフニウムに由来する回折ピークの回折強度をＩａとしたときに、下記式（１）における結晶化パラメータＰが、０．７以上である、光学フィルタ１。　Ｐ＝（２×Ｉｃ＋Ｉｍ）／（Ｉｃ＋Ｉｍ＋Ｉａ）...式（１）