RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD

• Main Authors: TSUJI Hiromitsu, TAKAKI Daichi, NAKAMURA Kumi, ADEGAWA Minoru, NAKAMURA Tsuyoshi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 22.06.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

The resist composition comprises: a resin component (A1) that exhibits a change in solubility in a developing solution due to the action of an acid; a photodegradable base (D0); and a fluorine additive component (F). The fluorine additive component (F) comprises a polymer compound that contains a constituent unit (f01) given by formula (f01-1) and a constituent unit (f02) given by formula (f02-1). R is a hydrogen atom and so forth. Vf01 is an alkylene group or a halogenated alkylene group. Yf01 is -CO-O- or -O-CO-. Rf01 is a fluorine atom-containing organic group. Vf02 is a divalent hydrocarbon group. Rf02 is an acid-cleavable group given by formula (f02-r1-1). Rf021, Rf022, Rf023, Rf024, and Rf025 are a hydrocarbon group. Yf02 is a quaternary carbon atom. La présente composition de réserve comprend : un composant de résine (A1) dont la solubilité change dans une solution de développement dû à l'action d'un acide ; une base photodégradable (D0) ; et un composant additif fluoré (F). Le composant additif fluoré (F) comprend un composé polymère qui contient un motif constitutif (f01) donné par la formule (f01-1) et un motif constitutif (f02) donné par la formule (f02-1). R représente un atome d'hydrogène et ainsi de suite. Vf01 représente un groupe alkylène ou un groupe alkylène halogéné. Yf01 représente -CO-O- ou -O-CO-. Rf01 représente un groupe organique contenant un atome de fluor. Vf02 représente un groupe hydrocarboné divalent. Rf02 représente un groupe clivable par un acide donné par la formule (f02-r1-1). Rf021, Rf022, Rf023, Rf024 et Rf025 représentent un groupe hydrocarboné. Yf02 représente un atome de carbone quaternaire. 酸の作用により現像液に対する溶解性が変化する樹脂成分（Ａ１）、光崩壊性塩基（Ｄ０）及びフッ素添加剤成分（Ｆ）を含有するレジスト組成物。フッ素添加剤成分（Ｆ）は、式（ｆ０１－１）で表される構成単位（ｆ０１）及び式（ｆ０２－１）で表される構成単位（ｆ０２）を有する高分子化合物を含む。Ｒは水素原子等。Ｖｆ０１はアルキレン基又はハロゲン化アルキレン基。Ｙｆ０１は－ＣＯ－Ｏ－又は－Ｏ－ＣＯ－。Ｒｆ０１はフッ素原子を含む有機基。Ｖｆ０２は２価の炭化水素基。Ｒｆ０２は式（ｆ０２－ｒ１－１）で表される酸解離性基。Ｒｆ０２１、Ｒｆ０２２、Ｒｆ０２３、Ｒｆ０２４及びＲｆ０２５は炭化水素基。Ｙｆ０２は第４級炭素原子。