SYSTEMS AND METHODS FOR REDUCING PATTERN SHIFT IN A LITHOGRAPHIC APPARATUS

• Main Authors: HAGEMAN, Joost, VAN LARE, Marie-Claire, VAN DER LAAN, Hans
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 15.06.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Described herein is a method for improving imaging of a feature on a mask to a substrate during scanning operation of a lithographic apparatus. The method includes obtaining a dynamic pupil (810) representing evolution of an angular distribution of radiation exposing a mask during a scanning operation of a lithographic apparatus and determining a variation of shift of a feature at a substrate occurring during the scanning operation due to interaction of the dynamic pupil with the mask. The method includes configuring at least one of a mask parameter or a control parameter (820) of the lithographic apparatus to reduce the variation of shift of the feature. A configuration module (805) may be used for this purpose. Un procédé pour améliorer la formation d'images d'une caractéristique concernant un masque sur un substrat lors d'une opération de balayage d'un appareil lithographique est décrit dans la présente invention. Le procédé consiste à obtenir une pupille dynamique (810) représentant l'évolution d'une distribution angulaire de rayonnement exposant un masque lors d'une opération de balayage d'un appareil lithographique et à déterminer une variation de décalage d'une caractéristique au niveau d'un substrat survenant lors de l'opération de balayage à la suite de l'interaction de la pupille dynamique avec le masque. Le procédé consiste à configurer au moins un paramètre parmi un paramètre de masque ou un paramètre de commande (820) de l'appareil lithographique pour réduire la variation de décalage de la caractéristique. Un module de configuration (805) peut être utilisé à cet effet.