ION SOURCE GAS INJECTION BEAM SHAPING

• Main Author: MCLAUGHLIN, Adam M
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 04.05.2023
• Subjects: BASIC ELECTRIC ELEMENTS; ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS; ELECTRICITY

An ion source for extracting a ribbon ion beam with improved height uniformity is disclosed. Gas nozzles are disposed in the chamber proximate the extraction aperture. The gas that is introduced near the extraction aperture serves to shape the ribbon ion beam as it is being extracted. For example, the height of the ribbon ion beam may be reduced by injecting gas above and below the ion beam so as to compress the extracted ion beam in the height direction. In some embodiments, the feedgas is introduced near the extraction aperture. In other embodiments, a shield gas, such as an inert gas, is introduced near the extraction aperture. La présente invention concerne une source d'ions qui permet d'extraire un faisceau d'ions en ruban avec une uniformité de hauteur améliorée. Des buses de gaz sont disposées dans une chambre à proximité d'une ouverture d'extraction. Le gaz qui est introduit à proximité de l'ouverture d'extraction sert à mettre en forme le faisceau d'ions en ruban lorsqu'il est extrait. Par exemple, la hauteur du faisceau d'ions en ruban peut être réduite par injection de gaz au-dessus et au-dessous du faisceau d'ions de manière à comprimer le faisceau d'ions extrait dans la direction de la hauteur. Dans certains modes de réalisation, le gaz d'alimentation est introduit à proximité de l'ouverture d'extraction. Dans d'autres modes de réalisation, un gaz de protection, tel qu'un gaz inerte, est introduit à proximité de l'ouverture d'extraction.