PLASMA IRRADIATION APPARATUS AND PLASMA TREATMENT LIQUID MANUFACTURING METHOD

• Main Authors: IKEDO, Toshiyuki, JINDO, Takahiro
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 04.05.2023
• Subjects: ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; ELECTRICITY; PLASMA TECHNIQUE; PRODUCTION OF ACCELERATED ELECTRICALLY-CHARGED PARTICLES OR OFNEUTRONS; PRODUCTION OR ACCELERATION OF NEUTRAL MOLECULAR OR ATOMICBEAMS

An atmospheric pressure plasma irradiation apparatus 10 comprises: a cover housing 22 that demarcates a predetermined space; a plasma generation device 20 that ejects plasma to the inside of the cover housing 22; a purge gas supply mechanism 32 that supplies gas to the inside of the cover housing 22; a stage 26 that is provided in the inside of the cover housing 22 and that holds a treatment target liquid; a duct port 160 which is provided in a lower part of the cover housing 22 and through which gas is discharged from the inside of the cover housing 22; and a liquid reservoir part 151 that is provided at the lower side of the duct port 160 and that stores a portion of the treatment target liquid having leaked from the stage 26. L'invention concerne un appareil d'irradiation par plasma à pression atmosphérique 10 comprenant : un boîtier de couvercle 22 qui délimite un espace prédéterminé ; un dispositif de génération de plasma 20 qui éjecte le plasma vers l'intérieur du boîtier de couvercle 22 ; un mécanisme d'alimentation en gaz de purge 32 qui fournit du gaz à l'intérieur du boîtier de couvercle 22 ; un étage 26 qui est disposé à l'intérieur du boîtier de couvercle 22 et qui contient un liquide cible de traitement ; un orifice de conduit 160 qui est disposé dans une partie inférieure du boîtier de couvercle 22 et à travers lequel le gaz est évacué de l'intérieur du boîtier de couvercle 22 ; et une partie réservoir de liquide 151 qui est disposée sur le côté inférieur de l'orifice de conduit 160 et qui stocke une partie du liquide cible de traitement ayant fui de l'étage 26. 大気圧プラズマ照射装置１０は、所定のスペースを区画するカバーハウジング２２と、カバーハウジング２２の内部に向かってプラズマを噴出するプラズマ発生装置２０と、カバーハウジング２２の内部にガスを供給するパージガス供給機構３２と、カバーハウジング２２の内部に設けられ、被処理液体を保持するステージ２６と、カバーハウジング２２の下部に設けられ、カバーハウジング２２の内部からガスを排気するダクト口１６０と、ダクト口１６０の下方に設けられ、ステージ２６から漏れ出た被処理液体の一部を溜める液溜まり部１５１と、を備えている。