RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMATION METHOD, COMPOUND, ACID GENERATING AGENT, ACID DIFFUSION CONTROL AGENT, AND HIGH MOLECULAR WEIGHT COMPOUND

• Main Authors: TODOROKI Seiji, ARAI Masatoshi
• Format: Patent
• Language: English; French; Japanese
• Published: 02.03.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CHEMISTRY; CINEMATOGRAPHY; COMPOSITIONS BASED THEREON; ELECTROGRAPHY; HETEROCYCLIC COMPOUNDS; HOLOGRAPHY; MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVINGCARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS; MATERIALS THEREFOR; METALLURGY; ORGANIC CHEMISTRY; ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP

This resist composition generates an acid when being exposed to light and changes the solubility with respect to a developer through the action of the acid. The resist composition contains a compound including a cation (C0) represented by general formula (c0). X01 represents an electron-withdrawing group, X02 represents an electron-withdrawing group different from X01, and R01 represents an electron donating group. R02 and R03 each independently represent a substituent group nx1 and nx2 each independently represent an integer of 1-4, n1 represents an integer of 0-3, and nx1+nx2+n1≤5 is satisfied. n2 and n3 each independently represent an integer of 0-4. La présente composition de réserve génère un acide lorsqu'elle est exposée à la lumière et modifie la solubilité par rapport à un révélateur par l'action de l'acide. La composition de réserve contient un composé comprenant un cation (C0) représenté par la formule générale (c0). X01 représente un groupe attracteur d'électrons, X02 représente un groupe attracteur d'électrons différent de X01, et R01 représente un groupe donneur d'électrons. R02 et R03 représentent chacun indépendamment un groupe substituant, nx1 et nx2 représentent chacun indépendamment un nombre entier de 1 à 4, n1 représente un nombre entier de 0 à 3, et nx1 + nx2 + n1 ≤ 5 est satisfaite. n2 et n3 représentent chacun indépendamment un nombre entier de 0 à 4. 露光により酸を発生し、かつ、酸の作用により現像液に対する溶解性が変化するレジスト組成物であって、一般式（ｃ０）で表されるカチオン（Ｃ０）を含む化合物を含有する、レジスト組成物。Ｘ０１は電子吸引性基であり、Ｘ０２はＸ０１とは異なる電子吸引性基であり、Ｒ０１は電子供与基である。Ｒ０２及びＲ０３は、それぞれ独立に、置換基である。ｎｘ１及びｎｘ２は、それぞれ独立に、１～４の整数であり、ｎ１は０～３の整数であり、ｎｘ１＋ｎｘ２＋ｎ１≦５である。ｎ２及びｎ３は、それぞれ独立に、０～４の整数である。