A METHOD FOR MODELING MEASUREMENT DATA OVER A SUBSTRATE AREA AND ASSOCIATED APPARATUSES

• Main Authors: TEN HAAF, Gijs, HAVIK, Niels, TRAN, Vu, ROOZE, Joost
• Format: Patent
• Language: English; French
• Published: 16.02.2023
• Subjects: APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR; CINEMATOGRAPHY; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; PHOTOGRAPHY; PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES,e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTORDEVICES; PHYSICS

Disclosed is a method for modeling alignment data over a substrate area relating to a substrate being exposed in a lithographic process. The method comprises obtaining alignment data relating to said substrate and separating the alignment data into a systematic component which is relatively stable between different substrates and a non-systematic component which is not relatively stable between different substrates. The systematic component and the non-systematic component are individually modeled and a process correction for the substrate determined based on the modeled systematic component and modeled non-systematic component. L'invention concerne un procédé de modélisation de données d'alignement sur une surface de substrat relatives à l'exposition d'un substrat dans un procédé lithographique. Le procédé consiste à obtenir des données d'alignement relatives audit substrat et à séparer les données d'alignement en un composant systématique, qui est relativement stable entre différents substrats, et un composant non systématique, qui n'est pas relativement stable entre différents substrats. Le composant systématique et le composant non systématique sont modélisés individuellement et une correction de procédé pour le substrat est déterminée sur la base du composant systématique modélisé et du composant non systématique modélisé.